[发明专利]彩色透明导电薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201711321463.8 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108109721A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 宋秋明;洪尚坤;刘莹;吕宜超;崔平生;王琦 | 申请（专利权）人： | 中国南玻集团股份有限公司;深圳南玻应用技术有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G02F1/153 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 518051 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩色透明 低折射率层 高折射率层 导电薄膜 导电层 制备方法和应用 干涉层 基底 工艺及设备 交替排布 依次层叠 增加生产 透明 透光 导电膜 折射率 导电 制备 | ||
1.一种彩色透明导电薄膜，其特征在于，包括透明基底，以及依次层叠于所述透明基底上的干涉层及导电层，所述干涉层包括高折射率层及低折射率层，所述高折射率层的材料及所述导电层的材料选自ITO、IXO、FTO、AZO、IZO、GZO、HAZO、SnO
2.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，在日光照明CIE-D65下的0°角反射CIE色彩坐标L*、a*、b*中，其色彩饱和度值>6。
3.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述高折射率层与所述导电层采用同质半导体材料。
4.根据权利要求书1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述高折射层与所述低折射率层的总层数不多于8层。
5.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述导电层的厚度为10nm～1000nm。
6.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述导电层的方阻为1Ω/□～100Ω/□。
7.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述透明基底在550nm波长处的折射率大于1.4小于1.6。
8.根据权利要求1所述的彩色透明导电薄膜，其特征在于，所述透明基底为透明玻璃或透明有机聚合物材料。
9.权利要求1所述的彩色透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，包括：
在所述透明基底表面制备所述干涉层；及
在所述干涉层表面制备所述导电层。
10.权利要求1～9任一项所述的彩色透明导电薄膜在光伏幕墙、电致变色幕墙、电加热玻璃、除雾除霜玻璃或低辐射玻璃中的应用。
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