[发明专利]一种苎麻种植方法有效

专利信息
申请号: 201711311579.3 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN107896849B 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 王延周;刘头明;戴求仲;朱四元;唐守伟;郑霞;吴端钦;侯振平;王满生 申请(专利权)人: 中国农业科学院麻类研究所
主分类号: A01G22/00 分类号: A01G22/00;A01G13/02;A01G13/00;A01C21/00
代理公司: 11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 李丙林<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 410205 湖南省长沙市岳麓*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 苎麻 种植 方法
【权利要求书】:

1.一种苎麻种植方法,其特征在于,包括以下步骤:

田间进行旋耕,起垄覆膜;

从膜上向下打孔,得到孔洞,所述孔洞施加营养基质;所述营养基质的粒度在5mm以下;

然后将种子与营养基质拌匀,得到种子混合物,然后在每个孔洞中添加种子混合物,所述孔洞在添加所述种子混合物之前浇水;

所述营养基质由牛粪发酵的有机肥与土壤按体积比1:0.9-1.4混匀制成,每个孔洞加入所述营养基质后,孔洞深度为4~6cm;

用无杂草种子的干碎草或碎秸秆,泡湿后覆盖孔洞;

出苗后田间管理。

2.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,若田间有杂草,在起垄覆膜前施用除草剂,所述除草剂为广谱性除草剂,喷施所述除草剂4个小时后,进行起垄覆膜。

3.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述覆膜所用的地膜为黑色塑料地膜,所述地膜的厚度在0.012mm以上。

4.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述起垄的高度为20~30cm;

进一步地,所述垄的长度不超过40m;

进一步地,垄上宽度在40cm~140cm,垄间宽度在60cm~80cm。

5.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述打孔为顺着垄的走向打2~4列孔洞,所述孔洞的直径为4~8cm;

进一步地,所述孔洞的深度为8~12cm;

进一步地,所述孔洞中心列距为30~50cm;所述孔洞中心行距为:饲料苎麻为30~50cm,纤维用苎麻为50~70cm。

6.根据权利要求5所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述孔洞的直径为6~8cm。

7.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述种子与所述营养基质按体积比为1:8-16拌匀,得到所述种子混合物,每个孔洞添加所述种子混合物的质量为4-7g;

进一步地,每亩播种量为40-80g,种子的发芽率在75%以上,含杂率在70%以下;

进一步地,每个孔洞添加所述种子混合物后,孔洞深度为3~5cm。

8.根据权利要求1所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述干碎草或碎秸秆的粒度在1~3cm,覆盖厚度为1~3cm。

9.根据权利要求1-8任一项所述的苎麻种植方法,其特征在于,所述田间管理包括:

出苗后去除一部分遮盖物,保持8%-15%透光率;

出苗长出新叶3片以上,施0.1%尿素水,每5~10天施肥一次,在苗高出地膜10cm后,施有机肥促进苗生长,并根据杂草情况喷施除草剂;

垄间有杂草,在杂草苗期及时打除草剂,打药时喷头高度低于垄高;

2-4片真叶期,开始进行间苗,每穴苗数低于10株,6~8片真叶期,进行第二次间苗,每穴留苗2~3株。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国农业科学院麻类研究所,未经中国农业科学院麻类研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711311579.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top