[发明专利]基于钙钛矿材料的可饱和吸收体器件及其制备方法有效
申请号: | 201711310331.5 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN108054631B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 鲍桥梁;沐浩然;张豫鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | H01S3/11 | 分类号: | H01S3/11 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 黄欢娣;邱启旺 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 钙钛矿 材料 饱和 吸收体 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于钙钛矿材料的可饱和吸收体器件,其特征在于,包括基底层(1),以及封装在所述基底层(1)表面的可饱和吸收层(2);所述可饱和吸收层(2)为钙钛矿材料;用于封装所述可饱和吸收层(2)的材料为光学透明的聚合物材料;
所述钙钛矿材料为有机-无机杂化钙钛矿材料、纯无机钙钛矿、钙钛矿衍生物或官能化钙钛矿材料;
所述可饱和吸收体器件通过以下方法制备得到:
(1)制备PDMS聚合物膜,作为转移层(4);
(2)将钙钛矿纳米片直接生长在转移层(4)上,或者将钙钛矿纳米片旋涂在转移层(4)上,并在30-50 ̊C下加热10-30分钟,在转移层(4)表面得到可饱和吸收层(2);
(3)将转移层(4)贴附于基底层(1)上,使其表面的可饱和吸收层(2)粘附在基底层(1)上;
(4)在50-60 ̊C下加热30分钟以上,PDMS转移层(4)失去黏性,和可饱和吸收层(2)分离脱落;
(5)在上述可饱和吸收层上旋涂一层PMMA或者PVA聚合物层,作为透明保护层(3)。
2.根据权利要求1所述的可饱和吸收器件,其特征在于,基底层(1)为反射层或透射层。
3.根据权利要求2所述的可饱和吸收器件,其特征在于,所述反射层为镀有反射膜的硅片或者二氧化硅片,所述透射层为聚合物透明薄膜。
4.根据权利要求1所述的可饱和吸收器件,其特征在于,光学透明的聚合物材料选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)。
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