[发明专利]一种稀土配合物修饰的黑磷材料及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201711310056.7 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN108275667B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 喻学锋;吴列;王怀雨 申请(专利权)人: 湖北中科墨磷科技有限公司
主分类号: C01B25/00 分类号: C01B25/00;C09K11/06
代理公司: 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 代理人: 薛建强<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 443007 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 黑磷 稀土配合物 配位 修饰 制备 应用 稀土离子配合物 孤对电子 光致发光 低成本 磷原子 普适性 稳定磷 重现性 产率 生产工艺 赋予
【说明书】:

本发明公开了一种稀土配合物修饰的黑磷材料及其制备方法与应用。利用稀土配合物与黑磷材料的磷原子进行配位,形成稳定的配位健,从而达到稳定磷原子中孤对电子的目的,使得黑磷材料的稳定性显著提高,同时赋予黑磷材料光致发光等功能。该方法具有普适性,适用于各种稀土离子配合物、原料简单易得、生产工艺操作简单、产率高、重现性好,可实现低成本大规模生产,具有较好的应用前景。

技术领域

本发明涉及材料领域,尤其涉及一种稀土配合物修饰的黑磷材料及其制备方法与应用。

背景技术

黑磷(black phosphorus,BP)具有和石墨烯类似的二维层状结构。在单原子层中,每个磷原子与相邻的3个磷原子共价相连,形成褶皱的蜂窝状结构,层与层之间通过范德华力堆垛在一起。黑磷的这种独特结构,使其在机械、电子、光学、热学、声学等方面有着优异的性能(L.Li,Y.Y u,etal.Nat.Nanotechnol.2014,9,372.J.S.Qiao,X.H.Kong,etal.NatureCommun.2014,5,4475.X.M.Wang,A.M.Jones,etal.Nanotechnol.2015,10,517.)。

黑磷是一种新型的二维(2D)纳米材料,从2014年出现伊始就受到了全世界的广泛关注。其是一种直接带隙半导体,带隙能随层数变化,因此是可调的,从而使其具有独特的电学、光学特性和良好的生物相容性。尽管黑磷已在晶体管、光通讯、能源、生物医学等领域都具有极大的应用潜力,但是它却存在着一个致命缺陷:稳定性不高。磷原子易与氧气进行反应生成磷的氧化物,磷的氧化物进而和空气中的水分进行反应生成磷酸,当接触水和氧气时,黑磷片层会在极短时间内氧化进而降解掉,使其丧失在电学、光学等方面的性能,这一缺陷极大地限制了黑磷的研究和工业应用。因此,如何解决黑磷易被氧化的问题,维持其结构和性能的稳定,成为影响黑磷发展的关键问题。

为解决这一问题,研究者们提出了几种解决方案,第一种为在黑磷表面覆盖上不同的物质,以隔绝氧气和水分[J.S.Kim,Y.Liu,et al.Sci.Rep.2015,5,8989]。第二种为向黑磷中掺杂碲原子,以减缓黑磷在环境中氧化降解[Yang B.et al.Adv.Mater.2016,28(42):9408-9415]。第三种为通过对黑磷表面使用重氮苯衍生物进行化学修饰的方法,使磷原子与碳原子成键,能大幅提高黑磷的稳定性能[Ryder C.R.et al.Nat.Chem.2016,8(6):597-602]。专利CN 106366121A公开了一种使用钛配体修饰黑磷的方法,获得了黑磷与钛配体的配合物,在不改变黑磷的固有属性的情况下,使黑磷的抗氧化能力大大增强,然而其使用的钛配体是专门设计的一种新型钛配体,并不常见,且合成工艺不成熟,钛配体易水解,无法赋予黑磷更多的功能,不利于广泛应用。

综上所述,黑磷及其上述改性方法存在以下问题:

①黑磷材料在空气和水中易被氧化降解,结构和功能保持性差;

②黑磷的表面覆盖其他的物质解决黑磷被氧化的效果并不理想;

③目前黑磷表面修饰工艺复杂、原料不易得、成本高、修饰效果不理想、难以实现大规模生产。

稀土金属包括钪、钇及镧系金属共17种元素。稀土金属在元素周期表中排在ⅢB族,其中镧系金属具有f壳层,大部分稀土元素在其配合物中通常为正三价氧化态。稀土金属离子半径大、配位数高,利于底物的配位和活化。作为发光物质的稀土配合物具有极其独特的优点:光呈现窄带发射,其次光色纯度高,这有利于制备高色纯的显示器件。此外稀土配合物也广泛应用于生物学标记、检测等领域。我国拥有十分丰富的稀土资源,稀土资源的研究开发已经成为热点,经稀土配合物修饰纳米材料具有优良的特性,具有巨大的应用前景。然而,稀土金属离子是硬Lewis酸,而磷为软Lewis碱,按照Pearson的软硬酸碱(HSAB)原理,稀土-磷的成键是不匹配的,稀土金属磷化物一般以离子键存在,因此实现稀土-磷配位化合物比较困难。

发明内容

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