[发明专利]一种用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法

权利要求书

1.一种用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、一光源激光器发出的激光束先入射至一微动执行单元，然后通过一偏振分束棱镜，激光束被分为s光与p光，p光进入一微动测量单元，所述微动测量单元将激光束的姿态信息传递给一控制系统，所述控制系统进行光电信号转换，最后所述控制系统控制所述微动执行单元对激光束的姿态进行稳定控制；

S2、s光经过一分束光栅被分为左右两束的曝光光束，左右两束的曝光光束入射至一光束宏动调整模块，左侧的曝光光束先入射至一宏动左侧执行单元，再由一基准光栅将左侧的曝光光束反射至一宏动测量单元中，右侧的曝光光束先入射至一宏动右侧执行单元，再由所述基准光栅将右侧的曝光光束衍射至所述宏动测量单元中，一工控机对所述宏动左侧执行单元以及所述宏动右侧执行单元输出驱动信号，以此分别对左右两束的曝光光束的指向进行调整；其中，所述光束宏动调整模块包括宏动左侧执行单元、宏动右侧执行单元、基准光栅、宏动测量单元以及工控机；

S3、左侧的曝光光束与右侧的曝光光束在一光栅基底上形成曝光用的干涉条纹。

2.如权利要求1所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：包括一光束微动调整模块，用于对激光束漂移进行实时纠正，所述光束微动调整模块包括微动执行单元、偏振分束棱镜、微动测量单元以及控制系统，所述偏振分束棱镜位于所述微动执行单元的后方，所述微动测量单元位于所述偏振分束棱镜的后方，所述控制系统位于所述微动测量单元的后方，所述微动执行单元以及所述微动测量单元均与所述控制系统连接；

所述分束光栅位于所述偏振分束棱镜下方；

所述光束宏动调整模块位于所述分束光栅的下方，用于对光束的指向进行精确定位调整，所述光束宏动调整模块包括宏动左侧执行单元、宏动右侧执行单元、基准光栅、宏动测量单元以及工控机，所述宏动左侧执行单元、所述宏动右侧执行单元以及所述宏动测量单元均与所述工控机连接。

3.如权利要求2所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：所述宏动左侧执行单元及所述宏动右侧执行单元均为微动电机。

4.如权利要求2所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：所述宏动测量单元为CMOS测量元件。

5.如权利要求2所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：所述微动执行单元为压电陶瓷。

6.如权利要求2所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：所述微动测量单元为PSD位置敏感探测元件。

7.如权利要求2所述的用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法，其特征在于：所述分束光栅为线密度为600gr/mm的直刻线透射光栅。