[发明专利]一种变弧面打弯模具在审

专利信息
申请号: 201711294001.1 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN107983896A 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 吴道祥;林林;陈焕良;李丹丹;曾庆华;陈丽芳;王清松 申请(专利权)人: 西南铝业(集团)有限责任公司
主分类号: B21J13/02 分类号: B21J13/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 罗满
地址: 401326 重庆市九龙*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 变弧面 打弯 模具
【说明书】:

技术领域

发明涉及锻造技术领域,更具体地说,涉及一种变弧面打弯模具。

背景技术

弧形类零件在汽轮机、航空工业、船舶、石油等领域作为核心零部件,发挥极其重要作用。随着制造业的飞跃发展,弧形类零件越来越多,其形状结构复杂,种类繁多,尺寸精度、表面质量要求更高,批量化生产趋势更强。弧形类零件的毛坯一般采用锻造方法成形。

大尺寸弧形的锻件在现有的航空类锻件中屡见不鲜,这类锻件现有的模锻工艺,采用大坯料体积堆积的方式来成型锻件,所造成的结果是锻件飞边极其不均匀,局部多处出现折叠缺陷,剖开锻件截面还会发现在有筋条的部位出现严重的穿流缺陷。

另外,由于直接采用大坯料体积堆积的方式来成型锻件,金属体积分配不合理,导致模具模压过程出现偏心受力的现象,极易造成模具损坏。

综上所述,如何有效地解决大尺寸弧形锻件缺陷较多质量差、且易造成模具损坏等问题,是目前本领域技术人员急需解决的问题。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种变弧面打弯模具,该变弧面打弯模具的结构设计可以有效地大尺寸弧形锻件缺陷较多质量差、且易造成模具损坏的问题。

为了达到上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种变弧面打弯模具,包括上模和下模,所述上模的一端为上平面,与所述上平面连接的为预设形状的上弧面;所述下模的一端为与所述上平面配合的下平面,与所述下平面连接的为预设形状的下弧面,且所述上弧面与所述下弧面的圆心分离,以使所述上模与所述下模合模后形成预设变弧面空间。

优选地,上述变弧面打弯模具中,所述上模的长度与所述下模的长度相同,所述上模的宽度与所述下模的宽度相同。

优选地,上述变弧面打弯模具中,所述上弧面的弧长为2634.05mm,半径为3592.12mm;所述下弧面的弧长为2961.67mm,半径为3139.34mm。

优选地,上述变弧面打弯模具中,所述下模上开设有起重孔。

优选地,上述变弧面打弯模具中,所述上平面或所述下平面上具有与待打弯的荒坯锻件上的凸台对应的定位凹槽。

优选地,上述变弧面打弯模具中,所述下弧面的一端为所述下平面,另一端为压料平面,所述压料平面上具有坯料定位凹槽。

本发明提供的变弧面打弯模具包括上模和下模。其中,上模的作用面为上平面与上弧面,上平面连接于上弧面的一端,且上弧面为预设形状的弧面;下模的作用面为下平面与下弧面,下平面连接于下弧面的一端,且下弧面为预设形状的弧面;下平面与上平面配合以压紧坯料,下弧面与上弧面的圆心不重合,即圆心分离,从而上模与下模合模后形成预设变弧面空间。

应用本发明提供的变弧面打弯模具,上模与下模的一侧,即上平面与下平面平直,用于坯料打弯过程金属的约束及定位。模具另一侧为打弯模具核心部分,主要用于荒坯锻件的弯曲成型,其中上模的上弧面与下模的下弧面配合,上下两弧面圆心位置不同,使得上下模合模时形成一个预设变弧面空间,从而使坯料成型为预定变弧面形状。采用该变弧面打弯模具,使得后续荒坯锻件终压过程金属分配更合理,一方面消除锻件折叠、穿流等缺陷;另一方面降低模具受力载荷,提高模具使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一个具体实施例的变弧面打弯模具的结构示意图;

图2为图1的侧视结构示意图;

图3为上模的三维结构示意图;

图4为下模的三维结构示意图;

图5为待打弯的荒坯锻件的结构示意图。

附图中标记如下:

1、上模,2、下模,3、起重孔,4、键槽,5、模尾,6、坯料定位凹槽,7、定位凹槽,8、凸台。

具体实施方式

本发明实施例公开了一种变弧面打弯模具,以消除锻件折叠、穿流等缺陷,并降低模具受力载荷,提高模具使用寿命。

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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