[发明专利]一种增透减反射膜层的制备方法有效
申请号: | 201711290403.4 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN107902918B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 康煌;柯城;贾迎辉;邬亚斌;李弥滋 | 申请(专利权)人: | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350301 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减反射膜 制备 方法 | ||
1.一种增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A、取摩尔比为1:(1~20):(0.01~5)的硅醇盐、醇类溶剂、硅烷偶联剂混合搅拌得到混合液A;
B、取摩尔比为(0.001~0.05):(1~30)的酸催化剂和去离子水混合搅拌得到混合液B;
C、将混合液B缓慢滴加入混合液A中,并使混合液A处于不断搅拌状态下,直至混合液B滴加完成,静置后得到硅溶胶;
D、取质量比为1:(0.01~0.5):(0.01~0.5)的硅溶胶、空心二氧化硅颗粒、分散剂混合搅拌制备得到镀膜溶液;
E、选取玻璃基片,然后用抛光液抛光玻璃基片表面后,用去离子水冲洗干净,再依次用丙酮和无水乙醇超声清洗10分钟,取出玻璃基片,并放入60℃烘箱中烘干;
F、将镀膜溶液采用辊涂法涂覆在玻璃基片上,待玻璃基片表面膜层流平后,将玻璃基片的表面温度控制在50~70℃的条件下烘干10~40min,在180~220℃条件下固化10~60min,在所述玻璃基片的表面形成膜层;
G、将玻璃基片置于碱性溶液中腐蚀,腐蚀时间为20~30min,腐蚀温度为20℃~40℃,腐蚀后的膜层表面形成凹凸绒面,然后用去离子水清洗干净,烘干后,即得到具有增透减反射膜层的镀膜玻璃,所述减反射膜层孔隙率为25.7%~57.1%。
2.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述硅醇盐选自正硅酸乙酯、正硅酸甲酯的一种或两种的混合。
3.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述醇类溶剂选自甲醇、乙醇、丙醇、丁醇的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述硅烷偶联剂选自KH550、KH560、KH570的一种。
5.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述酸催化剂选自盐酸、硝酸的一种或两种的混合。
6.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述分散剂选自Disperbyk 2050、Disperbyk 185、Disperbyk 171、Disperbyk 174的一种。
7.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述碱性溶液选自NaOH溶液、KOH溶液、LiOH溶液的一种或任意两种的混合。
8.根据权利要求1所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述空心二氧化硅颗粒选自下述的一种或几种的组合:球体空心二氧化硅颗粒、半球体空心二氧化硅颗粒、椭球体空心二氧化硅颗粒、柱形体空心二氧化硅颗粒。
9.根据权利要求1或7所述的增透减反射膜层的制备方法,其特征在于,所述碱性溶液浓度为0.01mol/L~0.5mol/L。
10.一种根据权利要求1-9中任一项所述制备方法得到的增透减反射膜层,其特征在于:所述减反射膜层孔隙率为25.7%~57.1%,所述减反射膜层的厚度为100~200nm。
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