[发明专利]一种用于PECVD设备的进气混合装置在审
| 申请号: | 201711286753.3 | 申请日: | 2017-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN107841729A | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
| 发明(设计)人: | 李致文;余仲;张勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司44247 | 代理人: | 尹彦,胡朝阳 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区横岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 pecvd 设备 混合 装置 | ||
1.一种用于PECVD设备的进气混合装置,包括第一进气引管、第二进气引管和出气口,其特征在于,还包括一分别与所述第一进气引管、所述第二进气引管和出气口连通的混气盒,所述混气盒内设有迷宫式的混气通道。
2.如权利要求1所述的用于PECVD设备的进气混合装置,其特征在于,所述混气盒包括一座体,其相对的侧边设有多个向内伸出、相互错开且与对面侧边隔开的挡板,和一与所述座体密封连接形成混气通道的盖板;所述第一进气引管和第二进气引管设置在所述混气盒的一端,所述出气口设置在所述混气盒的另一端。
3.如权利要求1所述的用于PECVD设备的进气混合装置,其特征在于,所述混气盒包括第一混气盒和第二混气盒,第一混气盒和第二混气盒的座体相互层叠固定在一起,所述第一混气盒的混气通道出口与所述第二混气盒的混气通道进口连通,第一进气引管、第二进气引管与出气口设置在同一端。
4.如权利要求1所述的用于PECVD设备的进气混合装置,其特征在于,所述出气口为并排设置的多个出气孔。
5.如权利要求3所述的用于PECVD设备的进气混合装置,其特征在于,所述第一混气盒上设有可安装螺钉与PECVD反应室内壁固定的通孔。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





