[发明专利]用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂

说明书

本发明涉及清洗剂技术领域，具体公开了一种用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂。以所述中性水基清洗剂质量含量为100％计，所述清洗剂包括如下组分：含氟表面活性剂0.01～0.2％；阴离子表面活性剂0.2～2.0％；非离子表面活性剂0.2～2.0％；醇醚类溶剂15.0～25.0％；助洗剂0.5～2.0％；pH调节剂0.02～2.0％；去离子水70.0～80.0％。本发明的清洗剂对镜头及镜头组件无腐蚀性，具有优异的兼容性，经过本清洗剂清洗后的光学镜头清洁度高达94％及以上，清洗无残留物，无损伤，无腐蚀，并且对清洗后的镜头进行接触角测量，接触角在13°及以下，表现出良好的清洗力。

技术领域

本发明涉及镜头清洗剂技术领域，尤其涉及一种用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂。

背景技术

随着科技的进步以及摄影技术的不断创新，消费者对具有摄影功能的电子产品的摄影效果的需求不断提升。因此产品本身的品质及运行稳定性必然得以重视。如手机产品的消费者特别是年轻群体有越来越多的人关注手机摄像效果是不是具有高清晰度、高运行稳定性等。而手机的拍摄功能及性能主要是由摄像镜头及其组件等硬件共同决定，因此在生产组装镜头及组件时各工艺将显得尤其重要。镜头及组件在生产组装时不可避免的会受到各种污染物的污染如，环境尘埃、指印、组装时焊接残留物等，为了确保镜头及组件的高品质和可靠性，需要对镜头及组件进行清洗。

目前对镜头及镜头组件进行清洗的清洗剂主要是碱性水基清洗剂，碱性水基清洗剂对镜头组件上的焊接残留物具有良好的清洗效果，但是碱性的清洗剂对镜头上的光学镀层以及组件的敏感材料有一定的损伤风险甚至直接损伤，同时也会对手机内部临近的精密电子部件有一定的腐蚀性，因此目前所使用的碱性水基清洗剂于镜头及镜头组件兼容性不佳。

发明内容

针对现有碱性水基清洗剂对镜头及镜头组件清洗时会存在一定的损伤风险、损伤、腐蚀以及清洗干净度不高问题，以及清洗无法满足光学组件的高可靠性需求的问题，本发明提出一种用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂。

为达到上述发明目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂，以所述中性水基清洗剂质量含量为100％计，包括如下组分：

相对于现有技术，本发明提供的用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂pH值为6.5～7.2，对镜头及镜头组件无腐蚀性，具有优异的兼容性，经过本清洗剂清洗后的光学镜头清洁度高达94％及以上，清洗无残留物，无损伤，并且对清洗后的镜头进行接触角测量，接触角在13°及以下，表现出良好的清洗力。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明提供一种用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂。

以所述中性水基清洗剂质量含量为100％计，包括如下组分：