[发明专利]一种多孔碳化物涂层的制备方法在审
申请号: | 201711275092.4 | 申请日: | 2017-12-06 |
公开(公告)号: | CN108103478A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 张锋;林俊;李子威;王鹏;仲亚娟;曹长青;于小河;杨旭;朱智勇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海应用物理研究所 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/56 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 邓琪;宋丽荣 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化物涂层 碳化物 造孔 制备 化学气相沉积装置 复合涂层 前驱体 氩气 高温氧化 基底表面 基底固定 裂解反应 稀释气体 氢气 孔隙率 有机烃 预设 载带 沉积 去除 | ||
1.一种多孔碳化物涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1,将基底固定在化学气相沉积装置中;
S2,以氢气或氩气作为载带稀释气体,将碳化物前驱体和造孔气按预设比例通入化学气相沉积装置中并在高温下裂解反应沉积,在基底表面获得碳化物和碳的复合涂层,其中,该造孔气为有机烃;
S3,通过高温氧化去除复合涂层中的碳,得到多孔碳化物涂层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,造孔气为甲烷、乙炔或丙烯。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体和造孔气的总体积在载带稀释气体中的体积分数不高于10%。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体在通入化学气相沉积装置中之前形成有热解碳涂层。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物为碳化硅、碳化锆、碳化硼、碳化钒、碳化钨、或碳化钽。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体为甲基三氯硅烷或六甲基二硅烷,造孔气为丙烯。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体为氯化锆和甲烷,造孔气为甲烷。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体为氯化硼和甲烷,造孔气为甲烷。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,裂解反应的温度为900℃-1600℃,高温氧化温度为500℃-1000℃。
10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,碳化物前驱体和造孔气的摩尔比为1:0.11-1.5,或1:0.055-0.75,或1:0.037-0.5,或1:1.1-2.5,或1:0.57-1.25,或1:0.37-0.83。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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