[发明专利]一种双摆臂校正工作台的装置在审
申请号: | 201711268667.X | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN107818934A | 公开(公告)日: | 2018-03-20 |
发明(设计)人: | 蒙国荪;杨国运;谢正刚;胡毅 | 申请(专利权)人: | 桂林立德爱博半导体装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/68;H01L21/683 |
代理公司: | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司45112 | 代理人: | 周雯 |
地址: | 541004 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双摆臂 校正 工作台 装置 | ||
1.一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,包括取芯部分、校正部分、精摆部分、控制部分;取芯部分、校正部分、精摆部分分别与控制部分连接。
2.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的控制部分为控制系统。
3.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的取芯部分,包括第一定位摄像头、第一摆臂、第一X-Y工作台;第一定位摄像头设置在第一X-Y工作台的正上方;第一摆臂与第一X-Y工作台相连接;第一定位摄像头、第一摆臂、第一X-Y工作台分别与控制部分的控制系统连接。
4.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的校正部分,包括校正摄像头、X-Y-θ校正工作台;校正摄像头设置在X-Y-θ校正工作台的正上方;校正摄像头、X-Y-θ校正工作台分别与控制部分的控制系统连接;X-Y-θ校正工作台还与取芯部分的第一摆臂相连接。
5.根据权利要求4所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的X-Y-θ校正工作台上设置有θ电机,校正摄像头设置在θ电机的正上方。
6.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的精摆部分,包括第二定位摄像头、第二摆臂、第二X-Y工作台;第二定位摄像头设置在第二X-Y工作台的正上方;第二摆臂与第二X-Y工作台相连接;第二定位摄像头、第二摆臂、第二X-Y工作台分别与控制部分的控制系统连接;第二摆臂还与校正部分的X-Y-θ校正工作台相连接。
7.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的X-Y-θ校正工作台、第二摆臂、第二X-Y工作台,根据目标精度要求,分别选择不同精度的X-Y-θ校正工作台、第二摆臂、第二X-Y工作台。
8.根据权利要求1所述的一种双摆臂校正工作台的装置,其特征在于,所述的取芯部分、校正部分、精摆部分分别与控制部分连接,通过控制系统运算、控制,实现芯片的修正、旋转等校正动作,并在控制系统的显示器将信息进行显示。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造