[发明专利]含有机无机杂化钙钛矿单晶发光层的钙钛矿LED及制备方法在审

专利信息
申请号: 201711266108.5 申请日: 2017-12-04
公开(公告)号: CN108091768A 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 袁国栋;刘文强;王琦;王军喜;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 钙钛矿 发光层 单晶 制备 电子注入层 空穴传输层 无机杂化 载流子 透明导电阳极 发光层表面 缺陷态密度 方向相反 光电性质 电注入 高效率 电极 复合 辐射
【权利要求书】:

1.一种含有机无机杂化钙钛矿单晶发光层的钙钛矿LED,包含:

CH3NH3PbX3钙钛矿单晶发光层,其中X=Cl、Br或I;

p型空穴传输层,沿第一方向形成于所述CH3NH3PbX3钙钛矿单晶发光层上;

透明导电阳极,形成于所述p型空穴传输层上;

n型电子传输层,沿与第一方向相反的第二方向形成于所述CH3NH3PbX3钙钛矿单晶发光层上;

电子注入层,形成于所述n型电子传输层上;以及

电极,形成于所述电子注入层上。

2.根据权利要求1所述的钙钛矿LED,其中,所述CH3NH3PbX3钙钛矿单晶发光层的厚度为100~150μm,其缺陷态密度为108~109cm-3

3.根据权利要求1所述的钙钛矿LED,其中,所述透明导电阳极的材料选自氧化铟锡、掺氟的氧化锡或石墨烯,其厚度为50~80nm,其电阻率为10-3~10-4Ω·cm。

4.根据权利要求1所述的钙钛矿LED,其中,所述p型空穴传输层的材料选自氧化镍纳米颗粒、氧化钼纳米颗粒或氧化钨纳米颗粒,颗粒尺寸为5~10nm,层厚度为30~50nm。

5.根据权利要求1所述的钙钛矿LED,其中,所述n型电子传输层的材料选自氧化锌纳米颗粒、氧化钛纳米颗粒或氧化锡纳米颗粒,颗粒尺寸为1~5nm,层厚度为30~50nm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的钙钛矿LED,其中:

所述电子注入层的材料选自氟化锂、氟化钙或氟化镁,层厚度为1~5nm;和/或

所述电极为金属电极,其厚度为100~150nm。

7.根据权利要求6所述的钙钛矿LED,其中,所述金属电极的材料选自铝或银。

8.一种含有机无机杂化钙钛矿单晶发光层的钙钛矿LED的制备方法,包含以下步骤:

在CH3NH3PbX3钙钛矿单晶薄片的一侧晶面上形成p型空穴传输层,其中,X=Cl、Br或I;

在所述p型空穴传输层上形成透明导电阳极层;

在CH3NH3PbX3钙钛矿单晶薄片的另一侧晶面上形成n型电子传输层;

在所述n型电子传输层上形成电子注入层;以及

在所述电子注入层上制作电极。

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