[发明专利]一种富表面氧空位的钼酸铋材料及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201711263833.7 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109865513A | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 李琦;杨炜沂;陈彦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | B01J23/31 | 分类号： | B01J23/31;B01J37/10;C02F1/30;C01G39/00;C02F101/34;C02F101/30;C02F101/38 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 许宗富;周秀梅 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 钼酸铋 空位 表面氧 制备方法和应用 后处理 环境保护技术 环境净化领域 纳米材料制备 光催化特性 光催化性能 太阳能利用 无机非金属 材料体系 工艺制备 水热合成 元素化学 光催化 计量 应用 制造 | ||
1.一种富表面氧空位的钼酸铋材料，其特征在于：所述钼酸铋材料为具有Aurivillius相结构的纳米材料，表面富有氧空位的缺陷，氧空位与晶格氧的比例为(0.28-0.96)：1。
2.根据权利要求1所述的富表面氧空位的钼酸铋材料的制备方法，其特征在于：该方法是采用碱性溶液对具有Aurivillius相结构的纳米钼酸铋材料进行选择性刻蚀，使氧空位存在于材料表面，获得所述富表面氧空位的钼酸铋材料。
3.根据权利要求1所述的富表面氧空位的钼酸铋材料，其特征在于：该方法是采用水热合成结合表面后处理的制备工艺，具体包括如下步骤：
(1)水热合成：
首先，将浓度为0.15-0.6mol/L的铋盐溶液和浓度为0.15-0.6mol/L的钼酸盐溶液按照1：1的体积比例混合，通过氨水调节混合溶液体系pH值至7，获得反应溶液；然后，将所得反应溶液在密闭的反应器中在140-200℃条件下保温反应10-30h，所得悬浮液离心分离，分离所得粉末用二次去离子水和无水乙醇交替洗涤5-8次；最后将洗涤后的粉末在50-70℃下干燥10h，即获得具有Aurivillius相结构的纳米钼酸铋材料；
(2)表面后处理：
将步骤(1)中得到的具有Aurivillius相结构的纳米钼酸铋材料分散至0.02-0.20mol/L的碱液中处理5-50h，通过碱液对材料进行选择性刻蚀后，获得富表面氧空位的钼酸铋材料。
4.根据权利要求3所述的富表面氧空位的钼酸铋材料的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，所述铋盐溶液是将五水合硝酸铋溶解于二次去离子水中制得，所述钼酸盐溶液是将钼酸铵溶解于二次去离子水中制得。
5.根据权利要求3所述的富表面氧空位的钼酸铋材料的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，所述碱液为氢氧化钠或氢氧化钾的二次去离子水溶液。
6.根据权利要求1所述的富表面氧空位的钼酸铋材料的应用，其特征在于：所述富表面氧空位的钼酸铋材料能直接应用于可见光下水中有机染料、芳香类有机物、抗生素以及水中微生物的光催化降解净化。
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