[发明专利]决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置

权利要求书

1.一种决定方法，决定矩阵，该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力与设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，其特征在于，具有：

第一工序，在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器后，取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；以及

第二工序，根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移，决定所述矩阵，

在所述第二工序中，

根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值的比，以所述第一部位中的一个部位处的所述光学元件的位移为基准，求出设置有所述多个致动器中的除了所述至少一个致动器以外的致动器的第二部位处的所述光学元件的位移，

根据所述第一部位处的所述光学元件的位移以及所述第二部位处的所述光学元件的位移，决定所述矩阵。

2.一种光学装置，其特征在于，具有：

多个致动器，对光学元件施加力而使该光学元件变形；

检测部，检测在所述多个致动器的各个致动器中流过的电流；

测量部，测量设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；以及

处理部，决定矩阵，该矩阵表示所述多个致动器各自的推力与设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，

所述处理部在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器后，根据由所述检测部检测的分别在所述多个致动器中产生的电流的值和由所述测量部测量的所述第一部位处的所述光学元件的位移来求出所述矩阵，

所述处理部以所述第一部位中的一个部位处的所述光学元件的位移为基准，求出设置有所述多个致动器中的除了所述至少一个致动器以外的致动器的第二部位处的所述光学元件的位移，

所述处理部根据所述第一部位处的所述光学元件的位移以及所述第二部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。

3.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，

所述处理部根据所述矩阵，决定为了使所述光学元件变形为目标形状而对所述多个致动器的各个致动器提供的电流的值。

4.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，

所述检测部包括针对所述多个致动器的各个致动器设置的多个电流计。

5.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，

所述测量部检测所述至少一个致动器的位移，根据该位移求出所述第一部位中的一个部位处的所述光学元件的位移。

6.一种投影光学系统，将物体投影到像面，其特征在于，具有：

光学元件；以及

光学装置，使所述光学元件变形，

所述光学装置具有：

多个致动器，对所述光学元件施加力而使该光学元件变形；

检测部，检测在所述多个致动器的各个致动器中流过的电流；

测量部，测量设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；以及

处理部，决定矩阵，该矩阵表示所述多个致动器各自的推力与设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，

所述处理部在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器后，根据由所述检测部检测的分别在所述多个致动器中产生的电流的值和由所述测量部测量的所述第一部位处的所述光学元件的位移来求出所述矩阵，

所述处理部以所述第一部位中的一个部位处的所述光学元件的位移为基准，求出设置有所述多个致动器中的除了所述至少一个致动器以外的致动器的第二部位处的所述光学元件的位移，

所述处理部根据所述第一部位处的所述光学元件的位移以及所述第二部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。