[发明专利]一种蒸镀用掩膜组件

说明书

本发明公开了一种蒸镀用掩膜组件。其中，蒸镀用掩膜组件包括：框架，用于设置掩膜垫；支撑件，与框架相连接以用于承托掩膜垫；掩膜垫，设于支撑件上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。通过上述组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种蒸镀用掩膜组件。

背景技术

有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Display，OLED)，与液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)相比具有自发光、广视角、低功耗、反应速度高等优点，被广泛使用。OLED在制作过程中大都采用以ITO玻璃为基板，利用蒸镀设备，将多层薄膜相继沉积在基板上而形成。OLED蒸镀技术利用蒸发源，内部充填OLED材料，在真空环境下蒸发源加热使材料升华或气化，透过金属掩膜，蒸镀于基板上。蒸镀过程中，金属掩膜板与玻璃之间的间距越小越好，如果间距过大，就会出现阴影效应，蒸镀材会在一定的程度上扩散至别的颜色上，造成混色。

本申请的发明人在长期的研发中发现，随着基板尺寸越来越大，金属掩膜板的尺寸也必须相应的增大，如此会造成金属掩膜板的掩膜因重力关系下垂，导致掩膜周边与中间区域相对玻璃的间距不同，严重影响蒸镀效果。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种蒸镀用掩膜组件，可以有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种蒸镀用掩膜组件，包括：框架，用于设置掩膜垫；支撑件，与框架相连接以用于承托掩膜垫；掩膜垫，设于支撑件上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。

本发明的有益效果是：通过在支撑件上设置用以平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差的掩膜垫，进而有效改善掩膜板下垂问题，优化蒸镀效果。

附图说明

图1是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的侧面结构示意图；

图2是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的俯视结构示意图；

图3是本发明支撑件一实施例的侧面结构示意图；

图4是本发明支撑件另一实施例的侧面结构示意图；

图5是本发明蒸镀用掩膜组件制作方法一实施例的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。

参考图1，图1是本发明蒸镀用掩膜组件一实施例的侧面结构示意图。如图所示，掩膜组件包括：框架10、支撑件11以及掩膜垫12。

框架10用于设置掩膜垫12，支撑件11与框架10相连接以用于承托掩膜垫12，掩膜垫12设于支撑件11上以用于平衡支撑件因重力下垂产生的形变高度差。框架10一般可以由金属或合金等形成，且用于固定支撑件11的部分可以与框架10的材质相同。

可选的，掩膜垫12为多个，间隔分布设置在支撑件11上，多个掩膜垫12的厚度与形变高度差相匹配。掩膜垫12的厚度分布是从中央到边缘逐渐降低，以使得在使用时，掩膜在重力作用下仍然保持在平坦状态。

在具体实施过程中，可以通过测量掩膜板不同位置的下垂量来决定掩膜垫的厚度及大小。也可以根据具体情况间隔设置多个掩膜垫，各掩膜垫之间间隔一定的阈值。还可以以支撑件中间的掩膜垫为参照，向两边依次设置大小递减且相互对称的多个掩膜垫，以达到更好的支撑掩膜板的作用。