[发明专利]真空腔及真空腔的制备方法

权利要求书

1.一种真空腔，其特征在于，具有：

支撑件(1)和腔室壁(2)，其中，

所述腔室壁(2)上形成有定位面(9)；

所述支撑件(1)的底面(4)上形成有凹陷的洁净区(5)，所述底面(4)位于所述定位面(9)上，并且，所述支撑件(1)与所述腔室壁(2)密封连接；

在所述支撑件(1)的顶面(3)上形成有第一螺纹孔(6)，所述第一螺纹孔(6)贯通至所述洁净区(5)。

2.根据权利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述支撑件(1)与所述腔室壁(2)满焊连接。

3.根据权利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述第一螺纹孔(6)至少具有两个。

4.根据权利要求1所述的真空腔，其特征在于，

在所述顶面(3)上还设置有第二螺纹孔(7)，所述第二螺纹孔(7)与所述洁净区(5)之间阻断。

5.根据权利要求4所述的真空腔，其特征在于，

在所述支撑件(1)上形成有放气通孔(8)，所述放气通孔贯通所述支撑件，且与所述第二螺纹孔(7)底部相通。

6.根据权利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述定位面(9)为形成在所述腔室壁(2)上的凹陷面。

7.根据权利要求6所述的真空腔，其特征在于，

所述定位面(9)凹陷的深度为1mm-2mm。

8.根据权利要求1所述的真空腔，其特征在于，

所述洁净区(5)凹陷的深度为2mm-5mm；

所述洁净区(5)呈锥形的敞口结构。

9.一种真空腔的制备方法，其特征在于，

在腔室壁(2)上形成定位面(9)；

在支撑件(1)的底面(4)上形成凹陷的洁净区(5)，在所述支撑件(1)的顶面(3)上形成贯通至所述洁净区(5)的第一螺纹孔(6)；

将所述底面(4)放置于所述定位面(9)上，并将所述支撑件(1)与腔室壁(2)密封连接；

使用螺钉与所述第一螺纹孔(6)螺接后，研磨加工所述顶面(3)。

10.根据权利要求9所述的真空腔的制备方法，其特征在于，

所述支撑件(1)与所述腔室壁(2)满焊焊接；

和/或，

在所述螺钉(10)与所述第一螺纹孔(6)之间设置有密封垫(11)。