[发明专利]干涉仪气浴装置及光刻机

说明书

本发明提供了一种干涉仪气浴装置，包括：稳压控温单元和气体导向单元，所述稳压控温单元包括静压腔和多级孔板组件，气流经所述静压腔初步稳压后流入多级孔板组件进行深度稳压及均化分布，再经所述气体导向单元流出。本发明提供了一种干涉仪气浴装置及光刻机，利用多级孔板组件深度稳压并均化气流分布，减小静压腔厚度进而减小气浴装置整体尺寸，并且气浴导向格栅与光路平行布置，在光路全程上气浴不分段，解决了现有干涉仪气浴装置厚度大、气浴不均匀的问题。

技术领域

本发明涉及温度控制领域，尤其是一种干涉仪气浴装置及光刻机。

背景技术

温度控制技术是应用于超精密设备内部的环境控制技术的重点，对于温度敏感区域，通常采用恒温冷却液或恒温空气喷淋(气浴)，来实现该区域高精度的温度等环境参数的控制，以避免外部环境或装备本身其他部分导致的温度等其他参数波动的影响。

对于光刻机内部空间，由于在半导体加工及光栅刻蚀过程中，精度和洁净度都要求非常高且存在许多光学测量装置，因此无法采用喷淋冷却液或浸没等方式，此时气浴为合适的处理方式。

为了保证气浴出口的压力稳定性和均匀性，干涉仪气浴装置一般采用静压腔结构稳压，并安装过滤器或滤布进行气浴过滤增压，出口采用格栅结构进行气浴导向，末端格栅导向结构垂直于干涉仪光路方向布置。图1为一种传统干涉仪气浴装置应用示意图，用于对干涉仪收发器101和反射镜106之间形成的干涉仪光路102进行气浴，该干涉仪气浴装置包括格栅103、滤布104和静压腔105。为了使气浴末端出口与进口压差稳定，需保证静压腔厚度达到一定尺寸，再加上过滤器的厚度尺寸，气浴装置整体厚度尺寸较大；格栅导向结构垂直于干涉仪光路方向布置，在物理结构上将一条光路分成若干小段进行气浴控制，受格栅厚度的影响，会使气浴分段进而使光路各段产生压力差和温度差，从而影响干涉仪测量的精度。

随着干涉仪测量光程的增加和运动台控制精度的提高，对干涉仪气浴控制的温度和压力的稳定性和均匀性要求也在不断提高。上述传统干涉仪气浴装置中，存在厚度空间要求大，光路各段存在压力差和温度差等缺陷，难以满足干涉仪远量程测量和运动台高精度控制以及更加苛刻的干涉仪气浴装置空间尺寸约束要求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种干涉仪气浴装置及光刻机,以解决干涉仪气浴装置厚度大、气浴均匀性不佳的问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种干涉仪气浴装置，包括：稳压控温单元和气体导向单元，所述稳压控温单元包括静压腔和多级孔板组件，气流经所述静压腔初步稳压后流入所述多级孔板组件进行深度稳压及均化分布，再经所述气体导向单元流出。

进一步地，所述稳压控温单元还包括滤布，所述多级孔板组件流出的气体经所述滤布进入所述气体导向单元。

进一步地，所述多级孔板组件包括初级孔板和次级孔板，所述初级孔板和次级孔板上均阵列分布若干孔，所述次级孔板设置在初级孔板外侧且其上孔的孔径和孔距均小于初级孔板上孔的孔径和孔距。

进一步地，所述初级孔板包括固定孔板和可动孔板，所述可动孔板能够相对所述固定孔板移动，使得所述可动孔板的孔和固定孔板的孔在气流流通方向上改变重合区域大小进而改变稳压程度。

进一步地，所述固定孔板或可动孔板上孔的孔径和/或孔距不相等。

进一步地，所述固定孔板和可动孔板上孔的孔径和/或孔距不相等。

进一步地，所述固定孔板和可动孔板上孔的孔径和孔距均不相等，中间区域孔的孔径小于外围区域孔的孔径且中间区域孔的孔距小于外围区域孔的孔距。

进一步地，所述固定孔板和可动孔板上孔的孔径相等且孔距也相等。