[发明专利]像素界定层、显示基板、显示装置、喷墨打印方法有效

专利信息
申请号: 201711242252.5 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN109860223B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 廖金龙 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 界定 显示 显示装置 喷墨 打印 方法
【权利要求书】:

1.一种像素界定层,包括:

第一像素界定层,所述第一像素界定层具有第一开口,所述第一开口包括对应于不同子像素的第一子像素开口和第二子像素开口;其中,所述第二子像素开口的开口大小大于所述第一子像素开口的开口大小;

第二像素界定层,位于所述第一像素界定层上,所述第二像素界定层具有第二开口,所述第二开口包括对应并连通于所述第一子像素开口的第四子像素开口和对应并连通于所述第二子像素开口的第五子像素开口;

其中,所述第四子像素开口与第一子像素开口的开口大小差值大于所述第五子像素开口与第二子像素开口的开口大小差值;

多个所述第二开口的大小相同。

2.根据权利要求1所述的像素界定层,其中,所述第一像素界定层的第一开口还包括开口大小大于所述第二子像素开口的第三子像素开口;所述第二像素界定层的第二开口还包括对应并连通于所述第三子像素开口的第六子像素开口,所述第五子像素开口与第二子像素开口的开口大小差值大于所述第六子像素开口与第三子像素开口的开口大小差值。

3.根据权利要求1所述的像素界定层,其中,所述第一像素界定层的材料包括亲水材料,所述第二像素界定层的材料包括疏水材料。

4.根据权利要求3所述的像素界定层,其中,所述亲水材料为硅氧化物或硅氮化物;所述疏水材料为聚亚酰胺。

5.根据权利要求3所述的像素界定层,其中,所述第一像素界定层的厚度为30nm-300nm,所述第二像素界定层的厚度为500nm-2000nm。

6.根据权利要求1所述的像素界定层,还包括基板,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层设置在所述基板上;在垂直于所述基板的方向上,所述像素界定层的截面呈阶梯状。

7.根据权利要求1所述的像素界定层,其中,多个所述第一开口的形状相同。

8.根据权利要求1所述的像素界定层,其中,多个所述第二开口的形状相同。

9.根据权利要求7或8所述的像素界定层,还包括基板,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层设置在所述基板上;所述第一开口与所述第二开口在所述基板上的正投影为矩形。

10.根据权利要求1所述的像素界定层,还包括基板,所述第一像素界定层和所述第二像素界定层设置在所述基板上;在垂直于所述基板的方向上,所述第一像素界定层和/或所述第二像素界定层的截面呈梯状。

11.一种利用权利要求1-10任一所述的像素界定层进行喷墨打印方法,包括:

在所述第一像素界定层和所述第二像素界定层的开口中进行喷墨打印,并且喷墨打印在所述像素界定层中的墨水的高度高于所述第一像素界定层的高度。

12.根据权利要求11所述的喷墨打印方法,其中,

在所述第一像素界定层和第二像素界定层的开口中进行喷墨打印的墨水干燥后形成的膜层位于所述第一像素界定层中;或者

在所述第一像素界定层和第二像素界定层的开口中进行喷墨打印的墨水干燥后形成的膜层位于所述第一像素界定层和第二像素界定层中。

13.一种显示基板,包括权利要求1-10任一所述的像素界定层。

14.根据权利要求13所述的显示基板,还包括设置于由所述多个第一开口与所述多个第二开口一一对应连通所得到的多个子像素区域中的发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。

15.根据权利要求13所述的显示基板,其中,所述显示面板具有红色子像素、绿色子像素与蓝色子像素,所述红色子像素、所述绿色子像素与所述蓝色子像素所对应的第一开口的大小依次增大。

16.一种显示装置,包括权利要求13-15任一所述的显示基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711242252.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top