[发明专利]用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置

权利要求书

1.一种用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，其包括反应罐、进料机构和搅拌机构，所述反应罐的顶部设置至少一个进料机构，所述搅拌机构设置在反应罐内；所述反应罐的腔体由上至下分为第一区域、第二区域和第三区域，所述第三区域的直径小于第一区域的直径用于加快晶体颗粒的富集。

2.根据权利要求2所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述第一区域与第三区域的直径比为1:1～5:1，所述第一区域的高度与第二区域和第三区域的高度和的比值为1:1～5:1。

3.根据权利要求2所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌电机、搅拌轴、搅拌桨组件、导流筒和挡板，所述搅拌电机设置在反应罐的顶部，所述搅拌桨组件设置在反应罐内并且通过搅拌轴与搅拌电机连接，所述导流筒设置在反应罐内并且位于第三区域，所述挡板沿反应罐内壁的轴向设置，所述挡板的一端固定于反应罐的内壁，另一端向水平方向弯折并且用于连接所述导流筒。

4.根据权利要求3所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述搅拌桨组件包括由上至下依次设置的第一搅拌桨、第二搅拌桨和第三搅拌桨，所述第二搅拌桨和第三搅拌桨均位于导流筒内。

5.根据权利要求4所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述第一搅拌桨、第二搅拌桨和第三搅拌桨的直径均为反应罐底部直径的30～70％，所述第一搅拌桨、第二搅拌桨和第三搅拌桨均为45°倾斜度的四叶搅拌桨，所述第三搅拌桨与反应罐底壁的距离大于第三搅拌桨的直径的0.5倍。

6.根据权利要求5所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述导流筒的直径为反应罐底部直径的40～80％，导流筒的高度为底部第三搅拌桨的直径的1～6倍。

7.根据权利要求6所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述挡板的数量为1～6个，所述挡板的宽度与反应罐的直径的比值为1:10～1:50。

8.根据权利要求1-7任意一项所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述反应罐的顶部开设有至少一个与进料机构配合的进料管口、温度计放置口、压力表放置口和人孔，所述反应罐的底部开设有出料口，所述反应罐的外层设置有循环介质夹层，所述循环介质夹层设置有循环介质进口和循环介质出口。

9.根据权利要求8所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，所述进料机构包括储料槽和进料管，所述进料管用于连接储料槽和进料管口，所述进料管上设置有阀门、泵、流量计和pH计。

10.根据权利要求9所述的用于制备大比重和大颗粒晶体的反应装置，其特征在于，还包括温控单元，所述温控单元包括水浴循环单元、蒸汽加热单元和温度计，所述水浴循环单元和蒸汽加热单元均通过管路与循环介质夹层连通，所述管路设置有阀门；所述温度计设置于温度计放置口内并且与水浴循环单元和蒸汽加热单元联动。