[发明专利]确定电阻抗断层成像的电极装置的轴向位置的设备和方法

权利要求书

1.一种用于电阻抗断层成像的设备（1），所述设备用于对表明电极装置的轴向移位和/或旋转角α的情况进行确定，其中所述电极装置被分配给所述用于电阻抗断层成像的设备（1）并且水平地布置在患者（35）的胸廓（34）上，所述设备具有：

- 电极装置，所述电极装置具有大量电极（33），所述电极以彼此间隔开的方式被布置在所述患者（35）的所述胸廓（34）的范围内的身体圆周上；

- 信号馈入单元（51），

所述信号馈入单元被构型并且被设置用于，

在测量周期的每个测量循环中将电馈入信号分别馈入到两个以周期性的方式并且在一个测量周期中以改变的方式进行馈入的电极（37、37'）上；

- 信号检测单元（50），

所述信号检测单元被构型并且被设置用于，

在所述测量周期的所述测量循环中的每个测量循环中检测和提供所述大量电极（33）的大量测量信号（55）；

- 计算和控制单元（70），

所述计算和控制单元被构型并且被设置用于，执行对所述大量电极（33）的所检测到的所述大量测量信号（55）的处理并且从所检测到的所述大量测量信号（55）中选择出所选择的测量信号（56）并且执行对所选择的测量信号（56）的处理；

- 被分配给所述计算和控制单元（70）的数据存储单元（71），所述数据存储单元被构型并且被设置用于：

存储和提供从所述测量信号（55）中所选择的测量信号（56）和对比信号走向（73）；

其中为了对表明在所述胸廓（34）上的所述电极装置的所述轴向移位（76）和/或所述旋转角α（77）的情况进行确定，

- 由所述计算和控制单元（70）以与所述数据存储单元（71）共同作用的方式从所述测量周期的每个测量循环的所述测量信号（55）中选择和存储所述测量信号（55）中的如下测量信号作为所选择的测量信号（56）：该测量信号已经在那些与所述胸廓（34）上的两个进行馈入的电极（37、37'）对置地布置的电极对上被检测到；

- 由所述计算和控制单元（70）以与所述数据存储单元（71）共同作用的方式，在每个测量周期中分别确定和存储相应选择的电极（36、36'）的分别与在所述胸廓（34）上的所述两个进行馈入的电极（37、37'）对置地布置的电极对的相应选择的测量信号（56）的平均值（560）；

- 由所述计算和控制单元（70）以与所述数据存储单元（71）共同作用的方式，针对所选择的电极（36、36'）的每个电极对，分别由所选择的测量信号（56）和针对所述所选择的电极（36、36'）所确定的所述平均值（560）来确定比例大小（72），作为信号走向（60）；

- 由所述计算和控制单元（70）以与所述数据存储单元（71）共同作用的方式，执行所述信号走向（60）与对比信号走向（73）的对比，其中所述对比信号走向（73）代表如下信号走向：在没有在所述胸廓（34）上的所述电极装置的轴向移位（76）或旋转角α（77）的情况下在所述电极（33）的正确的定位的情况下得到所述信号走向；

- 由所述计算和控制单元（70）基于所述对比来确定在所述胸廓（34）上的所述电极装置的所述轴向移位（76）和/或所述旋转角α（77）；

- 由所述计算和控制单元（70）来生成和提供控制信号（79），所述控制信号表明在所述胸廓(34)上的所述电极装置的所述轴向移位（76）和/或所述旋转角α（77）。

2.根据权利要求1所述的设备（1），其中，所述计算和控制单元（70）被构造用于协调输出单元（80），其中所述输出单元（80）被布置在所述用于电阻抗断层成像的设备（1）中或者布置在所述用于电阻抗断层成像的设备（1）上，或者被分配给所述用于电阻抗断层成像的设备（1）。