[发明专利]真空负压进样的多通道微流控芯片装置及制备方法与应用

权利要求书

1.一种真空负压进样的多通道微流控芯片装置，其特征在于，该多通道微流控芯片包括主通道(1)、上样通道(2)、滤膜(3)、刻蚀有微通道的光学透明层(4)和未刻蚀微通道的光学透明层(5)；所述刻蚀有微通道的光学透明层(4)与未刻蚀微通道的光学透明层(5)键合连接；所述主通道(1)和上样通道(2)位于刻蚀有微通道的光学透明层(4)与未刻蚀微通道的光学透明层(5)键合连接的平面上；所述主通道(1)和上样通道(2)相连通，并呈垂直连接；所述主通道(1)和上样通道(2)是负压状态；所述主通道(1)的宽度大于上样通道(2)的宽度；所述上样通道(2)大于等于两个；所述滤膜(3)位于主通道(1)上部，且与刻蚀有微通道的光学透明层(4)和未刻蚀微通道的光学透明层(5)黏合。

2.如权利要求1所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置，其特征在于，所述主通道(1)和上样通道(2)中充满了纤维素溶液。

3.如权利要求1或2所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置，其特征在于，所述刻蚀有微通道的光学透明层(4)为刻蚀有微通道的聚二甲基硅氧烷层；所述未刻蚀微通道的光学透明层(5)为未刻蚀微通道的聚二甲基硅氧烷层或未刻蚀微通道的载玻片。

4.如权利要求1或2所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置，其特征在于，所述上样通道(2)为八个，均平行排布；邻近两个上样通道(2)之间的间隔为0.6mm～1.2mm；所述主通道(1)的长度为0.1mm～0.3mm；所述上样通道(2)的宽度为0.05mm～0.15mm；所述主通道(1)和上样通道(2)的深度为20μm～80μm。

5.如权利要求1所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(a)制作如权利要求1所述的刻蚀有微通道的光学透明层上的微通道的芯片掩模；

(b)在基片上滴加光刻胶，并使光刻胶均匀分布在基片上；

(c)将步骤(b)得到的基片进行加热，使光刻胶中的溶剂挥发；

(d)利用紫外光光刻将步骤(a)所述的芯片掩模上的微通道转移至步骤(c)得到的基片上；

(e)将步骤(d)得到的基片进行加热，使基片紫外光光刻区域内的光刻胶发生充分的交联反应；

(f)将步骤(e)得到的基片进行显影和定影；

(g)将步骤(f)得到的基片进行加热，使基片上的光刻胶加固；

(h)将光学透明材料和固化剂混匀后，倾倒在步骤(g)得到的基片上进行烘烤，光学透明材料固化后，将光学透明材料从基片上进行剥离，得到具有如权利要求1所述的刻蚀有微通道的光学透明层上的微通道的芯片；

(i)将步骤(h)得到的的芯片和没有微通道结构的光学透明层进行键合；

(j)将步骤(i)得到的键合后的芯片进行横切和竖切，漏出微通道；

(k)将步骤(j)得到的芯片浸泡在等离子体中后取出，增加微通道的亲水性；

(l)将步骤(k)得到的芯片的微通道上部贴滤膜；

(m)将步骤(l)得到的芯片进行抽真空，即得到所述真空负压进样的多通道微流控芯片装置。

6.如权利要求5所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置的制备方法，其特征在于，在所述步骤(k)之后，在微通道中导入纤维素溶液，使所述纤维素溶液布满微通道。

7.如权利要求5或6所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置的制备方法，其特征在于，所述步骤(h)中的光学透明材料为聚二甲基硅氧烷，步骤(i)中的光学透明材料为聚二甲基硅氧烷或载玻片。

8.如权利要求1-4任一所述的真空负压进样的多通道微流控芯片装置用于分离血细胞和血浆的应用。