[发明专利]沉积环固定组件、承载装置及反应腔室

权利要求书

1.一种沉积环固定组件，其特征在于，包括支撑柱、固定板、限位件以及弹性件，其中：

支撑柱，所述支撑柱的第一端用于与沉积环连接；

固定板，固定设置且所述固定板上开设有安装孔，所述支撑柱的第二端贯穿所述安装孔；

限位件，设置在所述支撑柱上；所述限位件位于所述固定板下方，且所述限位件套置在所述支撑柱的外周壁上；

弹性件，被限制在所述限位件和所述固定板之间，且在其弹力作用下所述支撑柱能在所述安装孔内下降，以向所述沉积环施加压紧力来固定沉积环。

2.根据权利要求1所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述支撑柱包括柱本体和第一凸块，所述柱本体的第一端沿径向向外形成所述第一凸块，所述第一凸块用于搭接在所述沉积环上设置的搭接面上。

3.根据权利要求2所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述支撑柱还包括第二凸块，所述第二凸块位于所述第一凸块和所述固定板之间，所述第二凸块用于防止所述支撑柱在安装过程中自所述安装孔掉落。

4.根据权利要求3所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述第一凸块采用绝缘材料制成。

5.根据权利要求4所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述柱本体、所述第一凸块和所述第二凸块一体成型。

6.根据权利要求2所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述支撑柱能够在所述安装孔内绕自身轴线旋转。

7.根据权利要求6所述的沉积环固定组件，其特征在于，所述弹性件为压簧，套置在所述支撑柱的外周壁上。

8.一种承载装置，包括用于承载晶片的基座，其特征在于，还包括沉积环和采用权利要求1-7任意一项所述的沉积环固定组件。

9.根据权利要求8所述的承载装置，其特征在于，所述支撑柱包括柱本体和第一凸块，所述柱本体的第一端沿径向向外形成所述第一凸块；

所述沉积环上设置有供所述柱本体和所述第一凸块进入的通道；

所述通道的内壁上形成有凹部或者缺口，所述凹部或者所述缺口的底面作为搭接面，所述第一凸块搭接在所述搭接面上。

10.一种反应腔室，其特征在于，包括权利要求8或9所述的承载装置。