[发明专利]一种紫色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法

说明书

技术领域

本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及一种紫色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。

背景技术

Low-E玻璃作为一种新型建筑及装饰材料，其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有以下明显优势：1)优异的热性能，外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50％以上。低辐射镀膜玻璃根据不同膜层结构相较于普通结构白玻门窗，可以减少该部位能量损耗的60％-90％；2)良好的光学性能。Low-E玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80％以上。而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。从室外观看，外观更透明、清晰。即保证了建筑物良好的采光，又避免了以往大面积玻璃幕墙、中空玻璃门窗光反射所造成的光污染现象，营造出更为柔和、舒适的光环境。

随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色呈多样化需求，如何开发出迎合市场需求的产品十分关键，紫色是由温暖的红色和冷静的蓝色化合而成，代表着幸运和财富，受膜系设计早期的偏好影响，低辐射膜系室外面以绿色、蓝色、中性色居多，目前还没有一款纯粹的紫色系低辐射产品。。

现有技术的缺点：

1)现有低辐射镀膜玻璃室外面主要偏向蓝色系与绿色系，无纯粹的紫色系产品。

2)部分中性色低辐射膜系室外面泛紫，此时紫色为杂色，反而导致玻面颜色不纯净，影响整体色彩表达。

发明内容

本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种紫色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何通过镀膜层的设计，设计出一款纯粹的紫色系低辐射的镀膜玻璃。

本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种紫色双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基片层向外依次附合的九个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnO层，第三层为Ag层，第四层为NiCr层，第五层为SiNx层，第六层为ZnO层，第七层为Ag层，第八层为NiCr层，第九层为SiNx层。

其中，第一层、第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层、第六层为第二电介质组合层，第七层为低辐射功能层,第八层为第二阻挡保护层，第九层为第三电介质层。

一种紫色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

A、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为20～30nm；

B、磁控溅射第二层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为5～8nm；

C、磁控溅射第三层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为8～12nm；

D、磁控溅射第四层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为0.5～1.5nm；

E、磁控溅射第五层：

靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为40～43nm；

F、磁控溅射第六层：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为17～20nm；

G、磁控溅射第七层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为7～10nm；

H、磁控溅射第八层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；；镀膜厚度为0.1～0.5nm；

I、磁控溅射第九层：