[发明专利]分析装置、计算机可读存储介质和分析方法

权利要求书

1.一种分析装置，其分析包含一个或多个干扰成分的试样中的测定对象成分，所述分析装置的特征在于，

所述分析装置包括：

光源，射出参考光，所述参考光是用规定的调制频率对波长进行了调制的光；

光检测器，检测测定对象光的强度和所述参考光的强度，所述测定对象光是所述参考光透过所述试样后的光；

第一计算部，计算强度比对数，所述强度比对数是所述测定对象光的强度与所述参考光的强度之比的对数；

频率成分抽出部，从所述强度比对数抽出所述调制频率的n倍的频率成分，n为1以上的整数；以及

第二计算部，根据所述频率成分抽出部的频率成分的抽出结果，计算所述测定对象成分的浓度或吸光度，

所述频率成分抽出部从所述第一计算部计算出的强度比对数，分别抽出将所述测定对象成分的种类数和所述干扰成分的种类数合计得到的数量以上的彼此不同的频率成分，

所述第二计算部根据所述频率成分抽出部的各频率成分的抽出结果，计算去除了干扰影响的测定对象成分的浓度，

所述分析装置存储单独频率成分或单独强度比对数，所述单独频率成分是通过从所述测定对象成分和各干扰成分单独存在时的各自的强度比对数抽出各所述频率成分而得到的，所述单独强度比对数是所述测定对象成分和各干扰成分各自的每单位浓度的强度比对数，

所述第二计算部根据所述频率成分抽出部的各频率成分的抽出结果、以及所述单独频率成分或所述单独强度比对数，计算所述测定对象成分的浓度。

2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述第二计算部通过求解由所述频率成分抽出部的各频率成分的抽出结果、所述测定对象成分和各干扰成分各自的单独频率成分或单独强度比对数、以及所述测定对象成分和所述各干扰成分各自的浓度构成的联立方程式，计算所述测定对象成分的浓度。

3.根据权利要求2所述的分析装置，其特征在于，

所述频率成分抽出部抽出数量大于将所述测定对象成分的种类数和所述干扰成分的种类数合计得到的数量的频率成分，

所述第二计算部使用最小二乘法，根据元数大于将所述测定对象成分的种类数和所述干扰成分的种类数合计得到的数量的成分种类的联立方程式计算所述测定对象成分的浓度。

4.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述干扰成分的成分种类是设想包含在所述试样中的最大数量的气体种类。

5.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述频率成分抽出部用所述调制频率的n倍的频率进行锁定检测并抽出所述频率成分，n为1以上的整数。

6.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述第一计算部求出所述测定对象光的强度与所述参考光的强度的比，并求出所述比的对数，由此计算所述强度比对数。

7.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述第一计算部求出所述测定对象光的强度的对数并且求出所述参考光的强度的对数，并从所述测定对象光的强度的对数减去所述参考光的强度的对数，由此计算所述强度比对数。

8.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

所述测定对象成分是包含排气的试样气体中所含的成分，

所述光源是半导体激光器，所述半导体激光器射出用包含所述测定对象成分的吸收光谱的峰值的波长进行了调制的参考光，

所述分析装置还包括池，所述试样气体导入所述池，

从所述半导体激光器射出的所述参考光向所述池照射，并且所述光检测器配置在透过所述池后的所述测定对象光的光路上。

9.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置还包括光源控制部，所述光源控制部使所述光源准连续振荡，并且使所述光源产生电流调制引起的温度变化并进行振荡波长的扫描。