[发明专利]一种类陶瓷式盖板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711211797.X 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN107834004A 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 杨鹏;周伟杰 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: H01M2/10 分类号: H01M2/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 罗满
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 种类 陶瓷 盖板 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明属于消费电子设备技术领域,特别是涉及一种类陶瓷式盖板及其制作方法。

背景技术

目前,陶瓷被广泛的应用到移动终端的盖板领域,同时行业内对陶瓷盖板特性的研究也越来越多。陶瓷材质盖板的机械性能优异,且以陶瓷制作的盖板呈现出亮色,具有良好的外观色泽,深受用户青睐。然而,陶瓷盖板制作工艺和流程控制要求高,其生产成本高。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供了一种类陶瓷式盖板及其制作方法,能够在低成本的基础上,制作出具有类似陶瓷效果的盖板,提升用户体验。

本发明提供的一种类陶瓷式盖板,包括基板,所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层,所述基板的第二表面设置有油墨层,所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜,其中,至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3。

优选的,在上述类陶瓷式盖板中,所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板中,所述光学膜层包括三层至五层膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板中,所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板中,所述光学膜层包括三层膜,其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜,第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜,第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。

本发明提供的一种类陶瓷式盖板的制作方法,包括:

利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层,所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜,其中,至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3;

在所述基板的第二表面制作油墨层。

优选的,在上述类陶瓷式盖板的制作方法中,所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板的制作方法中,所述光学膜层包括三层至五层膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板的制作方法中,所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。

优选的,在上述类陶瓷式盖板的制作方法中,所述光学膜层包括三层膜,其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜,第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜,第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。

通过上述描述可知,本发明提供的上述类陶瓷式盖板及其制作方法,由于该类陶瓷式盖板包括基板,所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层,所述基板的第二表面设置有油墨层,所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜,其中,至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3能够在低成本的基础上,制作出具有类似陶瓷效果的盖板,提升用户体验。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的示意图;

图2为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的制作方法的示意图。

具体实施方式

本发明的核心思想在于提供一种类陶瓷式盖板及其制作方法,能够在低成本的基础上,制作出具有类似陶瓷效果的盖板,提升用户体验。

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板如图1所示,图1为本申请实施例提供的第一种类陶瓷式盖板的示意图,该盖板包括基板1,所述基板1的第一表面依次设置有光学膜层2和类金刚石膜层3,所述基板1的第二表面设置有油墨层4,所述光学膜层2包括由至少两种氧化物膜201、202交替叠加形成的至少三层膜,其中,至少两种所述氧化物膜201、202之间的折射率差值不小于0.3。

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