[发明专利]用于TA2钛合金材料厚膜阳极化的工艺

说明书

本发明属于材料表面处理领域，涉及一种主要针对TA2钛合金材料厚膜阳极化的工艺，包括阳极氧化的步骤，阳极氧化时采用脉冲叠加方式进行阳极氧化，脉冲叠加的基础电压是80V；阳极氧化的脉冲电压是180V‑220V；阳极氧化的占空比是1/2；阳极氧化时的槽液温度是6±2℃；阳极氧化的反应时间包括缓启时间1分钟、阳极化时间50‑70分钟以及缓降时间1分钟；缓启时间是从零电压升至基础电压所用的时间；缓降时间是从基础电压降至零电压所用的时间。本发明提供了一种膜层厚度可达到8‑10微米、能明显提高耐蚀性以及防止铁等其他金属杂质的污染的用于TA2钛合金材料厚膜阳极化的工艺。

技术领域

本发明属于材料表面处理领域，涉及一种材料阳极化工艺，尤其涉及一种主要针对TA2钛合金材料厚膜阳极化的工艺。

背景技术

TA2钛合金是工业纯钛，主要用作化工、造船以及医疗等工作温度在350℃以下受力不大的耐蚀零件。具有高的比强度、重量轻、耐热性强以及耐腐蚀等许多优势。在钛合金零件在制备过程中如果表面被铁离子污染，在电介质中，钛与铁形成微电池，在电化学作用下，使氢渗入钛中，导致钛的氢化而变脆，危急钛合金零件的使用寿命及安全。对钛合金进行阳极化处理增强其耐蚀性并防止铁离子污染。在HB/Z 347-2002《钛及其合金阳极氧化工艺及质量检验》中给出TC4，TC6等8-10微米厚膜阳极化的工艺参数，并未给出TA2厚膜8-10微米的阳极氧化工艺参数。同时，国内外的期刊杂志，还没有专门针对TA2钛合金进行8-10微米厚膜阳极氧化的资料。

钛合金阳极化膜层厚度依材料牌号和处理工艺有所差异。TA2材料化学成分含量见表1。

表1 TA2的化学成份含量

FeCNHO≤0.3％≤0.1％≤0.05％≤0.015％≤0.25

发明内容

为了解决背景技术中存在的上述技术问题，本发明提供了一种膜层厚度可达到8-10微米、能明显提高耐蚀性以及防止铁等其他金属杂质的污染的用于TA2钛合金材料厚膜阳极化的工艺。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：