[发明专利]一种新型抛光抑制剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711208734.9 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN109836123A 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 韩璐 申请(专利权)人: 韩璐
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C04B33/132;C04B35/14;C04B35/622;C04B35/63
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710000 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 陶瓷砖 抑制剂 抛光废渣 二氧化硅 抛光抑制 氧化铝 制备 致密 陶瓷砖坯体 质量百分比 资源化利用 碳酸钙 废渣废料 高温烧结 工艺实施 降低生产 排放污染 陶瓷制品 原料成本 制备工艺 混合料 操控 公知 黄腊 坯体 成型 平整 生产
【说明书】:

一种新型抛光抑制剂及其制备方法,所述抑制剂为二氧化硅和氧化铝的至少一种;所述抑制剂中含有黄腊石和碳酸钙的至少一种;首先按质量百分比计,将10~20%的抑制剂、10~20%陶瓷砖抛光废渣和60~70%的公知陶瓷砖坯体原料进行混合;然后将混合料成型制成坯体;最后将其高温烧结,获得平整致密的陶瓷制品;本发明采用了二氧化硅和氧化铝作为抑制剂,具有抑制效率高、易于控制和适应范围广的特点;解决陶瓷砖抛光废渣生产陶瓷砖的工艺实施和控制难度高的问题;实现陶瓷砖抛光废渣的高效的资源化利用,提高陶瓷砖的结构和外观质量,降低生产的原料成本,利用率高、减少废渣废料的排放污染,制备工艺简单、易于操控、适用性广、便于实施和推广。

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种新型抛光抑制剂及其制备方法。

背景技术

现有技术将未接触过抛光磨块的抛光废渣以一定的比例加入常规粉料中,用于生产瓷质抛光砖;而最难处理的是接触过抛光磨块的抛光废渣,现有对接触过抛光磨块的抛光废渣有两种处理方法:一种是利用接触过抛光磨块的抛光废渣的高温发泡性能来生产呼吸砖、泡沫陶板、透水砖、空心陶瓷板、轻质砖、多孔陶粒、洞石等产品;另一种是把接触过抛光磨块的抛光废渣以一定比例加入常规粉料中,用于生产瓷质砖,主要需要解决接触过抛光磨块的抛光废渣中碳化硅高温发泡问题。广东宏陶陶瓷有限公司专利(公布号CN102617123)《利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖的配方及方法》公开一种利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖配方及方法,采用特定的温度下保温、延长烧成时间、增加氧化气氛等手段以保证陶瓷抛光废渣的气体排放,克服因陶瓷抛光废渣在高温下因排放的气体过多而使产品发泡的缺点,但仍然存在工艺较为复杂,既需要调整配方,又需要改变窑炉原有的烧成制度和烧成气氛,工艺实施和控制的难度大,普适性低,不易于进行推广的缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提出一种新型抛光抑制剂。

本发明的另一个目的在于提出一种新型抛光抑制剂及其制备方法。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

一种新型抛光抑制剂及其制备方法,所述抑制剂为二氧化硅和氢氧化铝的至少一种。

进一步说明,所述抑制剂为二氧化硅∶氧化铝=2~4∶1的混合物。

进一步说明,所述抑制剂中含有黄腊石和碳酸钙的至少一种。

一种抑制陶瓷砖抛光污泥高温烧结发泡的方法,首先按质量百分比计,将10~20%的抑制剂、10~20%陶瓷砖抛光废渣和60~70%的公知陶瓷砖坯体原料进行混合;然后将混合料成型制成坯体;最后将其高温烧结,获得平整致密的陶瓷制品。

进一步说明,所述陶瓷砖坯体原料包括粘土类原料、砂石类原料和滑石;所述粘土类原料为高岭土、伊利石、膨润土、A级黑泥、佛冈黑泥和花都黑泥中一种或多种组合;所述砂石类原料为龙山钾砂、阳江铝钾砂、贵广高铝钾钠砂、富港钠砂、高铝钾砂和广西钾砂中一种或多种组合。

进一步说明,所述混合料制成坯体之前还包括球磨、除铁和喷雾干燥工序,获得颗粒粉料;所述球磨细度为350目筛余0.5~1%。

进一步说明,所述高温烧结的烧成温度为1190~1220℃。

进一步说明,所述坯体在高温烧结之前还包括抛坯工序。

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