[发明专利]一种热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷在审

专利信息
申请号: 201711208576.7 申请日: 2017-11-27
公开(公告)号: CN109836159A 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 高明超 申请(专利权)人: 沈阳东青科技有限公司
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/575;C04B35/645;C04B35/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110000 辽宁省沈阳市*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 复相陶瓷 热等静压 原位合成 断裂韧性 三点弯曲 原位合成反应 制备高性能 粉末合金 耐磨性 副反应 纳米级 致密化 抗弯 生产工艺
【说明书】:

为了改善粉末合金的硬度,耐磨性,设计了一种热等静压原位合成的SiC‑TiC复相陶瓷。采用纳米级SiC粉末,Si粉末,C粉和TiH2粉为原料,所制得的热等静压原位合成的SiC‑TiC复相陶瓷,其硬度,致密化程度,抗弯强度都得到大幅提升。其中,以SiC,Ti,C粉末为原料的原位合成反应无副反应发生,更易得到成分符合预期,致密度良好且性能优秀的SiC‑TiC复相陶瓷。以SiC,Ti,C粉末为原料的热等静压原位合成样品,热等静压压力从80MPa提高到140MPa,材料的致密度,三点弯曲强度,硬度以及断裂韧性均得到一定程度的提高。复相陶瓷具有最好的致密度,硬度,三点弯曲强度以及良好的断裂韧性。本发明能够为制备高性能的SiC‑TiC复相陶瓷提供一种新的生产工艺。

所属技术领域

本发明涉及一种粉末冶金材料,尤其涉及一种热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷。

背景技术

原位合成法是一种最近发展起来制备复合材料的新方法。基本原理是不同元素或化合物之间在一定条件下发生化学反应,而在金属基体内生成一种或几种陶瓷相颗粒,以达到改善单一金属合金性能的目的。通过这种方法制备的复合材料,增强体是在金属基体内形核、自发长大,因此,增强体表面无污染,基体和增强体的相溶性良好,界面结合强度较高。同时,不像其它复合材料,省去了繁琐的增强体预处理工序,简化了制备工艺。

陶瓷材料在很多领域中有着广泛的应用。但它最致命的弱点是高脆性和低可靠性,从而在很多场合中限制了它的应用。用纳米级的第二相存在于微米级或亚微米级的基体的晶内或晶界中,就可以同时起到对材料的强化与增韧的效果,它又是材料设计的一个很好的对象。纳米复相陶瓷在组成上向多相复合方向发展,在性能上向多功能方向耦合,结构与功能一体化是这一研究动向最集中的体现。

发明内容

本发明的目的是为了改善粉末合金的硬度,耐磨性,设计了一种热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷的制备原料包括:平均粒径约40nm,纯度大于99%的纳米级SiC粉末,平均粒径80nm,纯度大于99%的Si粉末,平均粒径约40nm,纯度大于99%的C粉和平均粒径3μm,纯度大于99.9%的亚微米级TiH2粉。

热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷的制备步骤为:将原始粉末按实验设计方案称重,配料,配好后倒入硬质合金球磨罐中进行湿磨,将制得的粒料进行真空干燥,干燥时间为50min,干燥温度为40℃,随后加入成形剂进行制粒。将制好的粉末加至压机中进行压制成形,放入真空烧结炉中进行烧结,烧结温度为1200℃,保温时间为90min。

热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷的检测步骤为:密度采用排水法测量,显微组织采用Image型光学显微镜观察,物相分析采用XPro型X射线衍射仪上分析,腐蚀形貌采用Quan200型扫描电子显微下观察,维氏硬度采用HVS30维氏硬度计测量,断裂韧性采用压痕法测量,弯曲强度采用WD3100型微机控制电子万能试验机测试,微观形貌采用JSM7001型场发射扫描电子显微镜观察。

所述的热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷,以SiC,Ti,C粉末为原料的原位合成反应无副反应发生,更易得到成分符合预期,致密度良好且性能优秀的SiC-TiC复相陶瓷。

所述的热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷,以SiC,Ti,C粉末为原料的热等静压原位合成样品,热等静压压力从80MPa提高到140MPa,材料的致密度,三点弯曲强度,硬度以及断裂韧性均得到一定程度的提高。

所述的热等静压原位合成的SiC-TiC复相陶瓷,在1300℃,80MPa,4h热等静压制度下原位合成得到的SiC-32%TiC复相陶瓷具有最好的致密度,硬度,三点弯曲强度以及良好的断裂韧性,分别达到99%,34GPa,514MPa和6MPa·m1/2。

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