[发明专利]一种面板版图设计中的曝光模拟方法有效
| 申请号： | 201711206769.9 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN107807497B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 马海南;马涛;戴斌华;路艳芳;白丽双;周莉 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王金双 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 面板 版图 设计 中的 曝光 模拟 方法 | ||
1.一种面板版图设计中的曝光模拟方法，包括以下步骤：
(1)抽象表示掩模板的曝光过程；
(2)得到掩模板与曝光区的匹配关系；
(3)根据掩模板及其相应的曝光区，计算重复曝光区的曝光模拟结果，将重复曝光区的曝光模拟结果与非重复曝光区的曝光模拟结果进行合并，得到最终的曝光模拟结果；
或根据式计算得到最终的曝光模拟结果，K：掩模板的数量；Mk：掩模板k；Rk：Mk相应的曝光区；S：最终曝光结果；
所述将重复曝光区的曝光模拟结果与非重复曝光区的曝光模拟结果进行合并，得到最终的曝光模拟结果的步骤，采用以下公式：其中，S：最终曝光结果；K：掩模板的数量；掩模板k位于非重复曝光区的部分；M″：重复曝光区的曝光模拟结果。
2.根据权利要求1所述的面板版图设计中的曝光模拟方法，其特征在于，步骤(1)进一步包括：将各掩模板的图形分别装到一个单元中，将多个所述单元放置在一个表示玻璃板的矩形上，并在所述玻璃板的矩形上画出表示曝光区的矩形。
3.根据权利要求1所述的面板版图设计中的曝光模拟方法，其特征在于，所述计算出重复曝光区的曝光模拟结果的步骤，采用以下公式计算出重复曝光区的曝光模拟结果：
其中，K：掩模板的数量；R′k：掩模板k相应的曝光区位于重复曝光区的部分；M′k：掩模板k位于重复曝光区的部分；M″：重复曝光区的曝光模拟结果。
4.根据权利要求1所述的面板版图设计中的曝光模拟方法，其特征在于，所述计算出重复曝光区的曝光模拟结果的步骤，采用以下公式计算出重复曝光区的曝光模拟结果：
其中，K：掩模板的数量；R′k：掩模板k相应的曝光区位于重复曝光区的部分；M′k：掩模板k位于重复曝光区的部分；M″重复曝光区的曝光模拟结果。
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