[发明专利]一种设计波导缝隙阵天线的方法及其装置

权利要求书

1.一种设计波导缝隙阵天线的方法，其特征在于，包括：

根据所述波导缝隙阵天线的天线缝隙数N和目标最大副瓣电平，确定所述波导缝隙阵天线中所述N个天线缝隙中每个天线的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，其中，第j个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数为A_j，0≤j≤N，j为整数，N为正整数；

根据所述波导缝隙阵天线的波导尺寸和所述N个天线缝隙中每个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，确定所述波导缝隙阵天线中每个天线的缝隙偏移量或倾斜角，其中，利用所述波导缝隙阵天线中每个天线缝隙的缝隙偏移量或倾斜角进行仿真得到的最大副瓣电平小于或等于所述目标最大副瓣电平，所述第j个天线缝隙的缝隙偏移量为offset*A_j，或者，所述第j个天线缝隙的倾斜角为phi*A_j，其中，offset与phi为正实数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述波导缝隙阵天线的天线缝隙数N和目标最大副瓣电平，确定所述波导缝隙阵天线中所述N个天线缝隙中每个天线的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，包括：

根据所述波导缝隙阵天线的天线缝隙数N和目标最大副瓣电平，选定综合方法；

根据所述综合方法，计算所述确定所述波导缝隙阵天线中所述N个天线缝隙中每个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述天线缝隙数N为偶数，所述波导缝隙阵天线的缝隙间距λg/2，其中λg为所述波导波长，所述目标最大副瓣电平SLL为。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，根据所述N个天线缝隙中每个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，确定所述波导缝隙阵天线中每个天线的缝隙偏移量或倾斜角，包括：

调整所述offset的数值，使得根据所述第j个天线缝隙的缝隙偏移量为offset*A_j，利用HFSS仿真软件进行仿真模拟，得到的最大副瓣电平小于或等于所述目标最大副瓣电平；或者

调整所述phi的数值，使得根据所述第j个天线缝隙的倾斜角为phi*A_j，利用HFSS仿真软件进行仿真模拟，得到的最大副瓣电平小于或等于所述目标最大副瓣电平。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述利用所述波导缝隙阵天线中每个天线缝隙的缝隙偏移量或倾斜角进行仿真得到的仿真结果满足所述波导分析阵天线的电压驻波比VSWR。

6.一种天线设计装置，其特征在于，包括：

第一确定单元，所述第一确定单元用于根据波导缝隙阵天线的天线缝隙数N和目标最大副瓣电平，确定所述波导缝隙阵天线中所述N个天线缝隙中每个天线的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，其中，第j个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数为A_j，0≤j≤N，j为整数，N为正整数；

第二确定单元，所述第二确定单元用于根据所述波导缝隙阵天线的波导尺寸和所述N个天线缝隙中每个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数，确定所述波导缝隙阵天线中每个天线的缝隙偏移量或倾斜角，其中，利用所述波导缝隙阵天线中每个天线缝隙的缝隙偏移量或倾斜角进行仿真得到的最大副瓣电平小于或等于所述目标最大副瓣电平，所述第j个天线缝隙的缝隙偏移量为offset*A_j，或者，所述第j个天线缝隙的倾斜角为phi*A_j，其中，offset与phi为正实数。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第一确定单元具体用于：

根据所述波导缝隙阵天线的天线缝隙数N和目标最大副瓣电平，选定综合方法；

根据所述综合方法，计算所述确定所述波导缝隙阵天线中所述N个天线缝隙中每个天线缝隙的缝隙偏移量系数或倾斜角系数。

8.根据权利要求6或7所述的装置，其特征在于，所述天线缝隙数N为偶数，所述波导缝隙阵天线的缝隙间距λg/2，其中λg为所述波导波长，所述目标最大副瓣电平为SLL。