[发明专利]具有抽真空的双膜片和真空监控装置的隔膜密封组件有效
申请号: | 201711191369.5 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN108240885B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 约阿希姆·齐普;乌多·罗桑伯格;托尔斯滕·鲍林;海科·克恩;阿尔布雷克特·卡利施;乌多·霍宁 | 申请(专利权)人: | WIKA亚历山大·威甘德欧洲股份两合公司 |
主分类号: | G01L19/06 | 分类号: | G01L19/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王瑞朋;王朝辉 |
地址: | 德国克*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 真空 膜片 监控 装置 隔膜 密封 组件 | ||
1.一种隔膜密封组件(1),具有:
基体(10),其具有至少一个第一膜片(31;31A)和第二膜片(32;32A),
第一测量仪器(MG),用于监控过程介质的压力,以及
第二测量仪器(LEG),其中
所述第一膜片(31;31A)朝向要监控的过程介质,
所述第二膜片(32;32A)朝向流体填充的压力路径(50),以及
在所述第一膜片(31;31A)和所述第二膜片(32;32A)之间构成中间空间(51),其中所述中间空间(51)是被抽真空的并且所述第二测量仪器(LEG)监控在所述中间空间(51)中存在的真空,
其特征在于,
围绕所述第一膜片(31;31A)的外边缘但是在第二膜片(32;32A)的外边缘之内安置有圆形的环形通道。
2.根据权利要求1所述的隔膜密封组件(1),
其中在所述基体(10)中设置有凹进部,以便在所述基体(10)中设置至少两个凹进部台阶,所述凹进部台阶通过预定的最小间距、台阶高度(H)彼此间隔开并且用于设置所述第一膜片(31;31A)和第二膜片(32;32A),其中所述第一膜片(31;31A)的外边缘设置在一个凹进部台阶上而所述第二膜片(32;32A)的外边缘设置在另一凹进部台阶上。
3.根据权利要求2所述的隔膜密封组件(1),
其中在两个膜片或焊接条之间的预定的最小间距为0.02mm-1.5mm。
4.根据权利要求2所述的隔膜密封组件(1),
其中在两个膜片之间的最小间距通过凹进部台阶尺寸(H)限定,该凹进部台阶尺寸比所述第二膜片(32)的厚度(d)大0.05mm-1.5mm。
5.根据权利要求2所述的隔膜密封组件(1),
其中所述预定的最小间距通过在所述膜片(32)的膜片厚度(d)和所述凹进部台阶的尺寸之间的差来形成,所述差在0.01mm-1.2mm的范围内。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的隔膜密封组件(1),
其中所述第一膜片(31A)和所述第二膜片(32A)构建为管式膜片形式并且所述第一膜片(31A)设置在所述第二膜片(32A)之内,其中所述第一膜片(31A)的外边缘是所述第一膜片的外环周,而所述第二膜片(32A)的外边缘是所述第二膜片的外环周,并且其中所述第一膜片(31A)的外环周和所述第二膜片(32A)的外环周通过预定的最小间距来间隔开。
7.根据权利要求2至5中任一项所述的隔膜密封组件(1),
其中所述基体(10)还具有与所述第二测量仪器(LEG)流体连接的槽(40),所述槽设置在所述第二膜片(32)的凹进部台阶中并且横向上在所述第二膜片(32)的外边缘之外。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的隔膜密封组件(1),
其中所述第二测量仪器(LEG)和在所述第一膜片(31;31A)和所述第二膜片(32;32A)之间的中间空间(50)通过通道(25,26;25C,26;25A;25A,25B,26)流体连接,并且其中抽真空接头(41)与所述通道(25,26;25C,26;25A;25A,25B,26)气密地连接,所述抽真空接头(41)双重气密地封闭。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的隔膜密封组件(1),
其中阀和/或膜装置集成在所述通道(25,26;25C,26;25A;25A,25B,26)中,所述阀和/或膜装置保护第二测量仪器(LEG)在泄漏情况下以免过压。
10.根据权利要求1至5中任一项所述的隔膜密封组件(1),
其中所述膜片(31;31A;32;32A)具有0.01mm-0.5mm的厚度,和/或所述膜片(31;31A;32;32A)波形地构成,具有0.5mm-20mm的波长,和0.1mm-2.0mm的双倍的幅度,或台阶形地构成,具有0.5mm-20mm的台阶间距。
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