[发明专利]一种降解水体中抗生素的方法有效
申请号: | 201711189927.4 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN107935101B | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 王振洋;张铖;张淑东;李年;刘翠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | C02F1/30 | 分类号: | C02F1/30;C02F1/32;C02F1/72;C02F103/34 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人: | 卢敏 |
地址: | 230031 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降解 水体 抗生素 方法 | ||
1.一种降解水体中抗生素的方法,其特征在于:设置光催化芯片,将所述光催化芯片加入到待处理水体中,以紫外灯、氙灯或汞灯作为光源照射所述光催化芯片,通过光催化作用实现水体中抗生素的降解;
所述光催化芯片是在基底上、且垂直于基底表面生长有氧化锌纳米棒阵列,所述氧化锌纳米棒阵列中各氧化锌纳米棒的表面包覆有硫化锌层,形成氧化锌-硫化锌复合纳米棒阵列结构;每1cm2的光催化芯片用于处理10mL、抗生素浓度为1~15mg/mL的水体;每1cm2的光催化芯片中氧化锌-硫化锌复合纳米棒阵列结构的质量为0.5~5mg/cm2;所述氧化锌-硫化锌复合纳米棒的直径在50-250nm、长度在500-3000nm;
所述光催化芯片的制备方法,包括如下步骤:
(1)制备氧化锌纳米棒阵列
对基底进行亲水处理:按照体积比3:1,将浓硫酸和质量浓度为30%的过氧化氢混合,获得混合洗液;将平面基底完全浸泡在所述混合洗液中,然后在烘箱中80~100℃条件下亲水处理20~40分钟,取出,用去离子水反复清洗后烘干;
在基底上生长种子层:配制0.005mol L-1醋酸锌的乙醇溶液;将亲水处理后的基底置于水平工作台上,量取20μL醋酸锌的乙醇溶液均匀涂布在基底上,然后转入烘箱中,130℃煅烧15分钟;取出,重复滴加醋酸锌的乙醇溶液、130℃煅烧15分钟两过程3~5次,得到种子层;
生长氧化锌纳米棒阵列:配制等摩尔浓度的0.05mol L-1硝酸锌和六亚甲基四胺的混合生长液于广口瓶中;将生长有种子层的基底垂直悬挂在所述混合生长液中,然后密封广口瓶;将广口瓶转移至恒温烘箱中,90℃反应5小时;反应结束后,取出并清洗,即在基底生长上氧化锌纳米棒阵列;
(2)制备氧化锌-硫化锌复合纳米棒阵列
配制0.01~0.10mol L-1的硫源溶液于广口瓶中,将生长有氧化锌纳米棒阵列的基底垂直悬挂于广口瓶中并密封;将广口瓶转移至恒温烘箱中,80~120℃反应1~10小时;反应结束后,取出并清洗,即得到氧化锌-硫化锌复合纳米棒阵列结构,获得催化剂芯片。
2.根据权利要求1所述的降解水体中抗生素的方法,其特征在于:所述抗生素包括卡那霉素、庆大霉素、链霉素、亚胺培南、头孢拉定、头孢克洛、头孢尼西、头孢替安、头孢唑肟、头孢克肟、头孢曲松、头孢咪唑、头孢克定、万古霉素、阿齐霉素、克拉霉素、红霉素、阿莫西林、青霉素、四环素、土霉素、氯霉素、呋喃唑酮、甲硝唑、环丙沙星、诺氟沙星、伊诺沙星、环丙沙星中的一种或几种的任意混合。
3.根据权利要求1所述的降解水体中抗生素的方法,其特征在于:所述基底为硅片、玻璃片、锌片或不锈钢片。
4.根据权利要求1所述的降解水体中抗生素的方法,其特征在于:所述光源的功率为≥50W。
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