[发明专利]一种球磨机用低磨耗耐磨球及其制备方法

权利要求书

1.一种球磨机用低磨耗耐磨球，其特征在于，包括熔覆层与耐磨球基体，耐磨球基体按质量百分数包括以下组分：C：0.75-0.95％、B：0.02-0.06％、Al：0.1-0.2％、Mg：0.05-0.1％、Ti：0.2-0.4％、Si：1-1.2％、Cr：6-10％、Mn：0.62-0.95％、Ni：0.22-0.34％、Zr：0.08-0.16％、Mo：0.12-0.22％、Ce：0.08-0.15％、Sm：0.06-0.12％、Er：0.06-0.12％，其余为Fe及不可避免的杂质。

2.根据权利要求1所述球磨机用低磨耗耐磨球，其特征在于，熔覆层的原料按重量份包括：合金粉末12-20份、纳米陶瓷粉末2.4-4份。

3.根据权利要求1或2所述球磨机用低磨耗耐磨球，其特征在于，合金粉末按质量百分数包括以下组分：C：0.15-0.3％、Ti：0.1-0.25％、Si：1.2-1.6％、Cr：16-20％、W：0.2-0.6％、B：0.05-0.1％、Mn：1.5-2.5％、Ce：0.2-0.4％、Nd：0.12-0.2％，其余为Fe及不可避免的杂质。

4.根据权利要求1-3中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球，其特征在于，纳米陶瓷粉末的原料按重量份包括：TiO₂：10-20份、B₂O₃：10-20份、NiO：8-15份、WC：5-10份、Si₃N₄：8-15份、TiN：5-10份。

5.一种根据权利要求1-4中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将废钢、铬铁、锰铁、镍锭、硅铁、镁铝合金和稀土铁合金进行熔炼，除渣，检测，调整组成，得到合金液；

S2、将合金液浇注成型，得到铸件，经热处理，得到耐磨球基体；

S3、将耐磨球基体清洗，干燥，然后涂覆合金粉末，经激光熔覆得到镀层耐磨球A，再涂覆纳米陶瓷粉末，经等离子熔覆得到镀层耐磨球B，经激光重熔，得到镀层耐磨球C，然后热处理，得到球磨机用低磨耗耐磨球。

6.根据权利要求1-5中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，S2中，将合金液浇注成型，得到铸件，将铸件升温至520-560℃，保温1.5-2.5h，然后升温至720-760℃，保温30-60min，再升温至880-915℃，保温12-20min，以2.5-4℃/min的速度降温至420-460℃，保温1-2h，空冷至室温，得到耐磨球基体。

7.根据权利要求1-6中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，S3中，激光熔覆工艺参数如下：单道扫描，氩气保护激光池，扫描速度为5.5-6.5mm/s，功率为1.4-1.6KW，光斑直径为1.8-2.5mm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，S3中，等离子熔覆工艺参数如下：保护气体为氮气且氮气气体流量为6.5-8L/min，功率为1.8-2.2KW，扫描速度为200-240mm/min，光斑直径为1.5-2.5mm。

9.根据权利要求1-8中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，S3中，激光重熔工艺参数如下：单道扫描，氩气保护激光池，扫描速度为270-300mm/min，功率为2.2-2.5KW，光斑直径为1.8-2.5mm。

10.根据权利要求1-9中任一项所述球磨机用低磨耗耐磨球的制备方法，其特征在于，S3中，热处理具体步骤如下：将镀层耐磨球C升温至220-250℃，保温4.5-5.5h，然后升温至300-320℃，保温40-60min，空冷至室温后放置4-6d。