[发明专利]光学胶折射率测量器件、测量系统及测量方法有效

专利信息
申请号: 201711189276.9 申请日: 2017-11-24
公开(公告)号: CN108051405B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 尤立星;侯昕彤;巫君杰;李浩;王镇 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;中国科学院大学
主分类号: G01N21/41 分类号: G01N21/41
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光学 折射率 测量 器件 系统 测量方法
【权利要求书】:

1.一种光学胶折射率测量系统,其特征在于,所述光学胶折射率测量系统包括:

光学胶折射率测量器件,所述光学胶折射率测量器件包括衬底、微纳光纤及光学胶;所述微纳光纤位于贴置于所述衬底的上表面,且所述微纳光纤的两端延伸至所述衬底的外侧,所述光学胶位于所述衬底的上表面且固化包覆于所述微纳光纤的外围;

制冷装置,用于放置所述光学胶折射率测量器件,并为所述光学胶折射率测量器件提供低温测量环境;

激光源,与所述微纳光纤的一端相连接,用于发射激光;

光功率计,与所述微纳光纤的另一端相连接,用于测量所述激光透过所述微纳光纤的透过率与温度之间的关系,以确定所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时的温度;

处理系统,用于依据所述微纳光纤的直径、所述微纳光纤的材料及所述激光的模式得到所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时所述光学胶的仿真折射率。

2.根据权利要求1所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述制冷装置包括G-M制冷机。

3.根据权利要求1所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述处理系统包括COMSOL Multiphysics仿真系统。

4.根据权利要求1所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述微纳光纤经由单模光纤拉制而成。

5.根据权利要求1所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述光学胶折射率测量器件还包括单模光纤及过渡光纤,其中,所述过渡光纤一端与所述单模光纤相连接,另一端与所述微纳光纤相连接;所述过渡光纤经由所述单模光纤拉制而成,所述过渡光纤的直径自与所述单模光纤相连的一端向与所述微纳光纤相连的一端逐渐变小。

6.根据权利要求5所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述光学胶折射率测量系统还包括偏振控制器,所述偏振控制器位于所述激光源与所述光学胶折射率测量器件之间的所述单模光纤上,用于调制入射至所述微纳光纤的激光的模式。

7.根据权利要求1所述的光学胶折射率测量系统,其特征在于:所述衬底包括MgF2衬底。

8.一种光学胶折射率测量方法,其特征在于,所述光学胶折射率测量方法包括如下步骤:

1)提供如权利要求1至7中任一项所述的光学胶折射率测量系统;

2)使用所述激光源向所述微纳光纤内输入激光;

3)使用所述制冷装置对所述光学胶折射率量测器件进行冷却,同时使用所述光功率计记录所述激光透过所述微纳光纤的透过率随温度的变化,以找到所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时的温度;

4)依据所述微纳光纤的直径、所述微纳光纤的材料及所述激光的模式得到所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时所述光学胶的仿真折射率;

5)依据所述光功率计找到的所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时的温度及步骤4)中得到的所述光学胶的仿真折射率,得到对应温度下所述光学胶的折射率。

9.根据权利要求8所述的光学胶折射率测量方法,其特征在于:步骤2)中,输入所述微纳光纤内的所述激光为经过调制后的TE模式的激光或TM模式的激光。

10.根据权利要求8所述的光学胶折射率测量方法,其特征在于:步骤4)中,使用COMSOLMultiphysics仿真系统依据所述微纳光纤的直径、所述微纳光纤的材料及所述激光的模式得到所述激光透过所述微纳光纤的透过率突变时所述光学胶的仿真折射率。

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