[发明专利]一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法

权利要求书

1.一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

第一步：将弱酸性阳离子交换树脂加入到重量百分比为2.5％～3.3％氯酸盐中，搅拌混合，搅拌的速度为50～60转/分钟，搅拌时间为5～7分钟，搅拌温度为10～13℃，然后滤出弱酸性阳离子交换树脂，控制或去除氯酸盐中的杂质离子；

第二步：将重量百分比为3.5～6.5％的无机盐氯化物和三分之一的蒸馏水到入反应釜中，在常温、常压下充分搅拌，搅拌时间为10～12分钟，搅拌速度为60～70转/分钟，搅拌温度为14～18℃；

第三步：然后加入重量百分比为1.2％～1.6％的三乙醇胺，充分搅拌6～7分钟；加入重量百分比为0.5～1.6％的碘酸，充分搅拌5～7分钟；加入三分之一的蒸馏水，充分搅拌4～6分钟；加入重量百分比为2.5～3.3％的氯酸盐，充分搅拌5～7分钟；加入重量百分比为1.5～2.3％的无机铵盐类缓冲剂，充分搅拌4～6分钟；加入重量百分比为0.5～1.5％的稳定剂；加入重量百分比为3.5～5.6％的铜腐蚀抑制剂，充分搅拌3～7分钟；最后再加剩余蒸馏水，再搅拌8～10分钟，搅拌速度为45～55转/分钟，搅拌温度均为14～18℃；

第四步：最后将制得的混合物经0.12μm的过滤器过滤，以去除混合物中粒径大于0.12μm的有害粒子，制得所需蚀刻液，其表面张力低为20～40×10-3N/m。

2.如权利要求1所述的一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述碘酸的浓度大于97.5％(重量百分比)，所述氯酸盐的浓度大于89％(重量百分比)。

3.如权利要求1所述的一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述无机铵盐类缓冲剂为司盘类无机铵盐类缓冲剂。

4.如权利要求1所述的一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述弱酸性阳离子交换树脂为弱酸性苯乙烯阳离子交换树脂。

5.如权利要求1所述的一种基于无机盐氯化物的显示器控制电路板用蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述弱酸性阳离子交换树脂与氯酸盐的质量比为0.3～0.5。