[发明专利]化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法

权利要求书

1.化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体，包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，

所述化学增幅正型抗蚀剂膜包含：(A)基础树脂，其包含在侧链上具有羟基苯基和保护基团的聚合物，所述聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)3-30重量％的有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物，

所述抗蚀剂膜能够被转印至另一支承体，

其中组分(D)为多官能羧酸与多元醇的缩合反应产物，

相对于100重量份的组分(A)，组分(D)的量为10-100重量份，并且聚合物(D)具有700-50000的Mw，

聚合物(A)包含来自于羟基苯乙烯或其衍生物的重复单元，其中酚羟基的一些氢原子被酸不稳定基团取代。

2.权利要求1所述的层叠体，其中所述多官能羧酸为脂族羧酸。

3.权利要求1所述的层叠体，其中所述抗蚀剂膜具有5-250μm的厚度。

4.图案形成方法，包括下述步骤：

(1)将权利要求1所述的层叠体的化学增幅正型抗蚀剂膜转印至另一支承体，

(2)使所述抗蚀剂膜曝光于波长230-500nm的放射线，和

(3)使所述抗蚀剂膜在碱性水溶液中显影。

5.权利要求4所述的方法，还包括步骤(4)：在步骤(3)之后通过电镀或化学镀在所述支承体上形成金属镀层。

6.权利要求5所述的方法，还包括步骤(1’)：在步骤(1)和(2)之间对所述抗蚀剂膜进行预烘焙。