[发明专利]一种配向膜的制备方法及制备装置在审

专利信息
申请号: 201711177694.6 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN107908045A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 任维 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 代理人: 钟子敏
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种配向膜的制备方法,其特征在于,包括:

在基板上形成配向材料层;

以第一速度移动所述基板,使所述配向材料层被光源发出的第一照射光垂直照射;

以第二速度移动所述基板,使所述配向材料层被所述光源发出的第二照射光照射,其中,所述第二照射光的入射方向与所述基板具有第一夹角,所述第一夹角以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述以第二速度移动所述基板,使所述配向材料层被所述光源发出的第二照射光照射之前,还包括:

测量所述配向材料层不同区域的厚度;

根据所述配向材料层不同区域的厚度确定所述第一夹角,以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述测量所述配向材料层不同区域的厚度,包括:

对所述配向材料层发射激光,以测量所述配向材料层不同区域的厚度。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,进一步还包括:

以第三速度移动所述基板,使所述配向材料层被所述光源发出的第三照射光照射,其中,所述第三照射光的入射方向与所述基板具有第二夹角,所述第二夹角以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象,且当所述第一夹角为锐角时,所述第二夹角为钝角,当所述第一夹角为钝角时,所述第二夹角为锐角。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,

所述第一速度的大小小于所述第二速度以及所述第三速度的大小;和/或,所述第一照射光的强度大于所述第二照射光以及所述第三照射光的强度。

6.一种配向膜的制备装置,其特征在于,包括:

运动机构,用于放置形成有配向材料层的基板,带动所述基板移动;

照射机构,用于发出照射光照射所述基板上的所述配向材料层,以形成具有配向功能的配向膜;

其中,所述运动机构先后以第一速度、第二速度分别带动所述基板移动,且当所述运动机构以所述第一速度带动所述基板移动时,所述照射机构发出第一照射光垂直照射在所述配向材料层上,当所述运动机构以所述第二速度带动所述基板移动时,所述照射机构发出第二照射光照射在所述配向材料层上,且所述第二照射光的入射方向与所述基板具有第一夹角,所述第一夹角以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象。

7.根据权利要求6所述的制备装置,其特征在于,所述照射机构具体包括:

光源,用于发出所述第一照射光以及所述第二照射光;

检测器,用于测量所述配向材料层不同区域的厚度;

控制器,用于根据所述检测器测量的所述厚度确定所述第一夹角,并控制所述光源发出所述第二照射光。

8.根据权利要求7所述的制备装置,其特征在于,

所述检测器为激光检测器,用于向所述配向材料层发射激光以测量所述配向材料层不同区域的厚度。

9.根据权利要求1所述的制备装置,其特征在于,

在所述运动机构先后以所述第一速度、所述第二速度分别带动所述基板移动后,所述运动机构继续以第三速度带动所述基板移动,且当所述运动机构以所述第三速度带动所述基板移动时,所述照射机构发出第三照射光照射在所述配向材料层上,所述第三照射光的入射方向与所述基板具有第二夹角,所述第二夹角以使所述配向材料层的入射光与所述配向材料层的反射光不发生干涉现象,且当所述第一夹角为锐角时,所述第二夹角为钝角,当所述第一夹角为钝角时,所述第二夹角为锐角。

10.根据权利要求9所述的制备装置,其特征在于,

所述第一速度的大小小于所述第二速度以及所述第三速度的大小;和/或,所述第一照射光的强度大于所述第二照射光以及所述第三照射光的强度。

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