[发明专利]自适应LED电流纹波消除电路有效

专利信息
申请号: 201711166944.6 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN109819545B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 庄华龙 申请(专利权)人: 江苏帝奥微电子股份有限公司
主分类号: H05B45/30 分类号: H05B45/30;H05B45/36
代理公司: 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 代理人: 赵芳梅
地址: 226017 江苏省南通市崇*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 自适应 led 电流 消除 电路
【说明书】:

一种自适应LED电流纹波消除电路,应用在LED驱动系统,自适应LED电流纹波消除电路包括驱动模块以及电流判别模块。驱动模块与LED驱动系统连接,驱动模块包括多个晶体管;以及电流判别模块与驱动模块连接,用以判定LED驱动系统的输出电流大小,并依据所述输出电流大小控制多个晶体管的栅极电压。

技术领域

发明涉及LED驱动系统领域,尤指一种应用在LED驱动系统领域的自适应LED电流纹波消除电路。

背景技术

LED作为一种新型光源,因其具备亮度强、能耗低且寿命长的优点而被广泛应用于照明领域。LED驱动芯片作为LED照明驱动电路的核心部件,随着LED市场的不断扩大,亟需不断地创新和发展。LED产业的快速发展也加速了调光产业的进步。调光技术不仅可以进一步节约能源,延长LED的使用年限,而且能够提高视觉效果,改善生活质量。可控硅调光自60年代开始出现,在近半个世纪以来一直主宰着整个照明调光领域。其以高兼容性,低成本,小体积,操作简便等优点深得消费者青睐。但是,目前传统家用双向可控硅(TRIAC)调光器适合调节白炽灯和卤素灯这类电阻性负载,当用其对普通LED驱动负载调光时会产生闪烁的问题,更不能实现宽范围的调光控制。

请参阅图1,图1为现有技术的LED电流纹波消除电路的电路结构图。如图1所示,第二运算放大器A2作为一个缓冲(buffer)电路,将前后级隔离,且使得缓冲电路的输入输出电压相等,即

VVCBUF=VVC

缓冲电路的输出电压VVCBUF经过第一电阻R1和第二电阻R2分压后,输入第一运算放大器A1的正输入端。第一运算放大器A1与晶体管M(MOS管)和第三电阻R3组成了一个电压电流转换器,产生LED的驱动电流ILED

晶体管M的漏端电压VLEDN与基准电压VREF在比较器CMP中比较:当VLEDN低于VREF时,第一开关S1断开,第二开关S2闭合,通过第二电流源I2对节点VC的电容C1放电,节点VC的电压逐步降低,GATE点的电压下降,晶体管M的导通阻抗升高,从而逐步减小流过LED的电流ILED,VLEDN也将随之升高。当VLEDN高于VREF时,第一开关S1闭合,第二开关S2断开,通过第一电流源I1对节点VC的电容C1充电,节点VC的电压逐步升高,GATE点的电压上升,晶体管M的导通阻抗下降,从而逐步增加流过LED的电流ILED,VLEDN也将随之下降。由此,可以将输入节点LEDN的电压VLEDN控制在一个相对合理的范围内,同时实现对前级输入电流纹波的衰减。但是,由于在每个工频周期中,电容C1总是存在充电和放电的过程,这样就在VC引脚形成一定的电压纹波,该电压纹波的幅度由C1电容的大小和第一电流源I1和第二电流源I2的大小决定。基于电路的实现和以及成本等因素,VC点的电压纹波幅度约为几十毫伏,VC点的电压纹波通过第一运算放大器A1会使得GATE点的电压出现电压纹波。在可控硅调光应用中,由于芯片要保证可控硅调光最大导通角时可流过大电流,因此要求芯片中晶体管M具有较小的导通阻抗和较大的宽长比。但在工作于可控硅调光最小导通角输出最小电流时,晶体管M工作于亚阈值区。

请参阅图2,图2为图1的晶体管工作在亚阈值区时导通阻抗随栅源电压变化关系图。如图2所示,工作在亚阈值区的晶体管M,栅源电压的波动会引起MOS导通阻抗的显着变化。在每个工频周期中MOS导通阻抗的显着变化会使得系统不能稳定流过LED的电流ILED,进而出现LED灯的频闪现象。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏帝奥微电子股份有限公司,未经江苏帝奥微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711166944.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top