[发明专利]OLED显示器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711148913.8 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN107731883A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 方俊雄;吴元均 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂,闻盼盼
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: oled 显示器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括:制作OLED基板(80)的步骤及对OLED基板(80)进行封装的步骤,其中,制作OLED基板(80)的步骤包括:提供衬底基板(10),在所述衬底基板(10)上形成呈阵列排布的数个阳极(21),在所述衬底基板(10)与数个阳极(21)上形成像素定义层(30),在所述像素定义层(30)上形成分别对应于数个阳极(21)上方的数个第一开口(31),分别在所述数个阳极(21)上形成数个OLED发光层(40),在所述数个OLED发光层(40)及像素定义层(30)上形成阴极(50),在所述阴极(50)的上方或者下方制作与所述阴极(50)相连的辅助阴极(22);其中,所述数个OLED发光层(40)不相连;所述辅助阴极(22)对应于数个阳极(21)的间隔区域设置。

2.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法,其特征在于,具体包括如下步骤:

步骤1、提供衬底基板(10),在所述衬底基板(10)上形成呈阵列排布的数个阳极(21),在所述衬底基板(10)与数个阳极(21)上形成像素定义层(30),在所述像素定义层(30)上形成分别对应于数个阳极(21)上方的数个第一开口(31);

步骤2、在所述像素定义层(30)上对应于数个第一开口(31)的间隔区域形成倒梯形光刻胶(60);

步骤3、在所述倒梯形光刻胶(60)、像素定义层(30)及数个阳极(21)上制备OLED发光薄膜(41);

步骤4、剥离所述倒梯形光刻胶(60),位于所述倒梯形光刻胶(60)上方的OLED发光薄膜(41)随之去除,得到数个不相连的OLED发光层(40);

步骤5、在所述数个OLED发光层(40)及像素定义层(30)上形成整面分布的阴极(50);

步骤6、在所述阴极(50)上制作对应于数个第一开口(31)的间隔区域的辅助阴极(22),制得OLED基板(80);

步骤7、对所述OLED基板(80)进行封装后,得到OLED显示器(200)。

3.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法,其特征在于,具体包括如下步骤:

步骤1、提供衬底基板(10),在所述衬底基板(10)上形成呈阵列排布的数个阳极(21),在所述衬底基板(10)与数个阳极(21)上形成像素定义层(30),在所述像素定义层(30)上形成分别对应于数个阳极(21)上方的数个第一开口(31)以及位于数个第一开口(31)的间隔区域内的第二开口(32);

步骤2、在所述第二开口(32)底部的衬底基板(10)上形成倒梯形光刻胶(60);

步骤3、在所述倒梯形光刻胶(60)、像素定义层(30)及数个阳极(21)上制备OLED发光薄膜(41);

步骤4、剥离所述倒梯形光刻胶(60),位于所述倒梯形光刻胶(60)上方的OLED发光薄膜(41)随之去除,得到数个不相连的OLED发光层(40);

步骤5、在所述数个OLED发光层(40)及衬底基板(10)上形成整面分布的阴极(50);

步骤6、在所述阴极(50)上制作对应于第二开口(32)的辅助阴极(22),制得OLED基板(80);

步骤7、对所述OLED基板(80)进行封装后,得到OLED显示器(200)。

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