[发明专利]级联薄膜基片粘结体制作工装及光学器件制作方法

权利要求书

1.一种级联薄膜基片粘结体制作工装，用于制作级联薄膜基片粘结体，所述级联薄膜基片粘结体用于制作级联薄膜光学器件，其特征在于，包括：工装主体、压力调整机构；

所述工装主体，用于承载多个层叠的级联薄膜基片并约束于一固定位置，所述级联薄膜基片之间涂有粘结剂；

所述压力调整机构，用于调整所述多个层叠的级联薄膜基片之间的压力分布，并将压力分布均匀的所述多个层叠的基片压制成级联薄膜基片粘结体，所述的级联薄膜基片粘结体胶层均匀分布；

所述压力调整机构包括：工装框架及多个调整螺钉、固定旋钮、压块；

所述多个调整螺钉螺纹连接于所述工装框架，所述工装框架滑动套设于所述工装主体内腔；所述工装框架具有一锁定机构，所述锁定机构用于将所述工装框架锁定于所述工装主体的一位置上，使所述工装框架与所述工装主体不产生相对滑动；

每个所述固定旋钮套设于每个对应所述调整螺钉上，用于切换所述调整螺钉处于半锁紧状态或锁死状态；

每个所述调整螺钉的下端对应连接有所述压块，多个所述压块用于向所述多个层叠的级联薄膜基片施加压力，调整压力分布。

2.一种光学器件制作方法，用于制造级联薄膜光学器件，其特征在于，包括：

在多个基片上镀膜制作多个级联薄膜基片；

使用如权利要求1所述的级联薄膜基片粘结体制作工装、多个级联薄膜基片制作级联薄膜基片粘结体；

将所述级联薄膜基片粘结体磨切成级联薄膜光学器件，所述级联薄膜光学器件包括：级联薄膜光波导、级联薄膜棱镜、级联薄膜透镜。

3.根据权利要求2所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述使用如权利要求1所述的级联薄膜基片粘结体制作工装、多个级联薄膜基片制作级联薄膜基片粘结体，包括：

将多个所述级联薄膜基片的表面涂覆粘结剂，并将所述级联薄膜基片依次层叠于所述级联薄膜基片粘结体制作工装的工装主体内；

通过自准直仪获取所述级联薄膜基片粘结体的级联薄膜的反射像、反射光圈；

根据所述反射像、反射光圈，调整所述压力调整机构施加于所述级联薄膜基片的力的分布，使反射光圈为同心圆状、反射像间距小于1’。

4.根据权利要求2所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述在多个基片上镀膜制作多个级联薄膜基片的步骤之后，所述使用如权利要求1所述的级联薄膜基片粘结体制作工装、多个级联薄膜基片制作级联薄膜基片粘结体的步骤之前，还包括：

使用离子束清洁所述多个级联薄膜基片。

5.根据权利要求2所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述将所述级联薄膜基片粘结体磨切成级联薄膜光学器件的步骤之后，还包括：

当所述级联薄膜光学器件为级联薄膜光波导时，使用激光数字干涉仪通过透射波前测试、反射波前测试，检测所述级联薄膜光波导的上下表面的平面度、平行度以及胶层内部的均匀性。

6.根据权利要求2所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述在多个基片上镀膜制作多个级联薄膜基片步骤中，每个所述级联薄膜基片的镀膜包括：偏振膜、偏振分光膜、面分光膜、SiO₂补偿膜。

7.根据权利要求2所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述将所述级联薄膜基片粘结体磨切成级联薄膜光学器件的步骤中，当所述级联薄膜光学器件为级联薄膜光波导时，包括：

使用金刚石刀头的磨切车床对所述级联薄膜基片粘结体沿设定角度的两面同时磨削，形成级联薄膜光波导原片；

根据设定尺寸切割级联薄膜光波导原片，制成所述级联薄膜光波导。

8.根据权利要求3所述的光学器件制作方法，其特征在于，所述粘结剂的折射率与级联薄膜基片的折射率的偏差△n0.01。

9.根据权利要求3所述的光学器件制作方法，其特征在于，调整所述压力调整机构施加于所述级联薄膜基片的力的分布后的每层胶层整体厚度小于5μm，胶层最厚处与最薄处之间的偏差小于1μm。