[发明专利]基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法

权利要求书

1.一种用于冲洗研磨垫窗口的下表面的冲洗系统，所述系统包含：

气体来源，所述气体来源经配置以提供气流；

输送喷孔；以及

输送线，所述输送线连接所述气体来源至所述输送喷孔，其中所述气体来源和所述输送喷孔经配置以引导气流至所述研磨垫窗口底部，并且其中防止凝结物形成在所述研磨垫窗口的所述下表面上。

2.如权利要求2所述的冲洗系统，进一步包括：

真空来源，所述真空来源经配置以提供真空；

真空喷孔；以及

真空线，所述真空线连接所述真空来源至所述真空喷孔。

3.如权利要求2所述的冲洗系统，其中所述气体来源经配置以提供特定量的气体，并且所述真空来源经配置以抽吸相同或相似量的气体。

4.如权利要求1所述的冲洗系统，其中所述气体是清洁的干燥气体或氮气。

5.如权利要求1所述的冲洗系统，进一步包括：

用于输送气体的旋转耦合器，所述耦合器设置在所述输送线内。

6.如权利要求1所述的冲洗系统，进一步包括：

风扇，配置成允许所述气体来源引入的气体逸出。

7.如权利要求6所述的冲洗系统，其中所述风扇包含排出开口，所述排出开口位于可忍受潮湿的位置处。

8.一种用于冲洗位于平台的空间内的研磨垫窗口的下表面的方法，所述方法包含：

将气体引入所述空间，所述气体被引导至所述研磨垫窗口的下表面；以及

将所述气体从所述空间排出，其中防止凝结物形成在所述研磨垫窗口的下表面上。

9.如权利要求8所述的方法，其中排气包含排至可忍受潮湿的位置。

10.如权利要求8所述的方法，其中：

所述平台相对于所述气体来源旋转；以及

引入气体包含输送气体通过用来输送气体的旋转耦合器。