[发明专利]表面量测系统

权利要求书

1.一种表面量测系统，用以量测具低反射的表面的一待测物，其特征在于，该表面量测系统包含：

一结露装置，用以形成一液体层于该待测物的该表面上，该结露装置包含：一腔体，用以容纳该待测物；一控温气体源，连接至该腔体，用以提供一控温气体至该腔体中以控制该待测物的温度；一增湿气体源，连接至该腔体，用以提供水气至该腔体中以形成该液体层于该待测物的该表面上；以及一导流结构，置于该腔体中，该导流结构用以将该控温气体与该水气均匀的导向该待测物上，其中该导流结构包含：

一扩散板，置于该控温气体源的出气口前，该扩散板为一平板，用以反射该控温气体与该水气以形成该控温气体与该水气的不规则流向；

一整流板，该扩散板置于该整流板与该控温气体源之间；以及

一集气板，置于该扩散板与该整流板之间，用以集中该控温气体与该水气，其中该集气板具有一通道，该通道的宽度自该扩散板往该整流板的方向渐缩；以及

一量测装置，包含：一平台，用以放置具有该液体层的该待测物；一光源，用以提供一光束以照射该平台上的该待测物；以及一影像撷取装置，用以侦测自该平台上的该待测物散射的该光束。

2.根据权利要求1所述的表面量测系统，其特征在于，该整流板具有多个贯穿孔，用以将该控温气体与该水气的流向均匀化。

3.一种表面量测系统，用以量测具低反射表面的一待测物，其特征在于，该表面量测系统包含：

一控温装置，包含：一控温腔体，用以容纳该待测物；一控温气体源，连接至该控温腔体，用以提供一控温气体至该控温腔体中以控制该待测物的温度；以及一导流结构，置于该控温腔体中，该导流结构用以将该控温气体均匀的导向该待测物上，其中该导流结构包含：

一扩散板，置于该控温气体源的出气口前，该扩散板为一平板，用以反射该控温气体以形成该控温气体的不规则流向；

一整流板，该扩散板置于该整流板与该控温气体源之间；以及

一集气板，置于该扩散板与该整流板之间，用以集中该控温气体，其中该集气板具有一通道，该通道的宽度自该扩散板至该整流板的方向渐缩；

一增湿装置，包含：一增湿腔体，用以容纳已控温的该待测物；以及一增湿气体源，连接至该增湿腔体，用以提供水气至该增湿腔体中以形成一液体层于该待测物的该表面上；以及

一量测装置，包含：一平台，用以放置具有该液体层的该待测物；一光源，用以提供一光束以照射该平台上的该待测物；以及一影像撷取装置，用以侦测自该平台上的该待测物散射的该光束。

4.根据权利要求3所述的表面量测系统，其特征在于，该整流板具有多个贯穿孔，用以将该控温气体的流向均匀化。