[发明专利]污染场地原位修复方法及系统

权利要求书

1.一种污染场地原位修复方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一，向污染场地待修复介质中注入还原剂，使待修复介质中的三价铁至少部分地被还原为二价铁离子；

步骤二，向待修复介质中注入氧化药剂，所述氧化药剂在二价铁离子的活化作用下对所述待修复介质进行修复；

所采用的氧化药剂的配制过程包括：

抽取待修复场地的地下水，向该抽取水中加入硼氢化钾或硼氢化钠，使得该部分抽取水中的三价铁离子被还原为二价铁离子；将还原后的抽取水加入氧化药剂配制罐中，一方面作为配水使用，另一方面提供氧化药剂所需的活化作用。

2.如权利要求1所述的污染场地原位修复方法，其特征在于：所述还原剂包括硼氢化钾或硼氢化钠。

3.如权利要求2所述的污染场地原位修复方法，其特征在于：所述还原剂还包括络合剂。

4.如权利要求1所述的污染场地原位修复方法，其特征在于：所述氧化药剂包括过硫酸盐或双氧水。

5.如权利要求1所述的污染场地原位修复方法，其特征在于：注入还原剂之后间隔15～48h再注入氧化药剂。

6.一种实现如权利要求1至5中任一项所述的污染场地原位修复方法的污染场地原位修复系统，其特征在于：包括还原剂注入单元和氧化药剂注入单元，所述还原剂注入单元和所述氧化药剂注入单元均包括药剂配制机构和药剂注射机构，所述药剂配制机构与对应的所述药剂注射机构通过药剂输送机构连接。

7.如权利要求6所述的污染场地原位修复系统，其特征在于：两所述药剂配制机构均包括两个药剂配制罐，两所述药剂配制罐的出水管均与对应的所述药剂输送机构连接，各所述出水管上均设有第一控制阀。

8.如权利要求7所述的污染场地原位修复系统，其特征在于：各所述药剂配制罐均连接有药剂回流管，各所述药剂回流管旁接于对应的所述药剂输送机构上，每一所述药剂回流管上沿药剂回流方向依次设有第二控制阀和流量调节阀。

9.如权利要求7所述的污染场地原位修复系统，其特征在于：两所述药剂配制机构均还包括传送机和用于盛装固体药剂的药剂斗，所述传送机包括主传输部、两分支传输部以及用于控制所述主传输部与两所述分支传输部切换导通的切换结构，所述主传输部与对应的所述药剂斗衔接，两所述分支传输部分别延伸至对应的两所述药剂配制罐的固体药剂入口处。

10.如权利要求9所述的污染场地原位修复系统，其特征在于：所述主传输部与两所述分支传输部均为输料管且连接形成一Y形结构，所述主传输部的轴线与对应的两所述分支主传输部的轴线位于同一基准平面内，所述切换结构包括闸板，所述闸板可转动安装于对应的所述Y形结构的三通交汇口处且转轴轴向垂直于所述基准平面。