[发明专利]一种GaNHEMT器件寄生参数的提取方法在审
申请号: | 201711130805.8 | 申请日: | 2017-11-15 |
公开(公告)号: | CN107918708A | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 陈勇波 | 申请(专利权)人: | 成都海威华芯科技有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙)51223 | 代理人: | 徐丰,张巨箭 |
地址: | 610029 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ganhemt 器件 寄生 参数 提取 方法 | ||
1.一种GaN HEMT器件寄生参数的提取方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1、将夹断偏置条件下的测试数据分为低频段、中频段和高频段三个频段,分别在低频段提取寄生电容和本征电容,在高频段提取寄生电感;
S2、结合零偏置条件和夹断偏置条件下的测试数据,提取GaN HEMT器件的寄生电阻;
S3、结合步骤S1和S2的参数提取结果,在夹断偏置条件下,评估全频段内模型的精度,计算误差大小;
S4、执行最优参数搜索的循环程序,搜索全频段内模型误差最小值对应的一组寄生参数值。
2.根据权利要求1所述的一种GaN HEMT器件寄生参数的提取方法,其特征在于:
步骤S1中,在夹断偏置条件下的GaN HEMT器件的小信号等效电路拓扑包括:栅源本征电容Cgsp、栅漏本征电容Cgdp、漏源本征电容Cdsp、栅极寄生电阻Rg、栅极寄生电感Lg、漏极寄生电阻Rd、漏极寄生电感Ld、源极寄生电阻Rs、源极寄生电感Ls、栅极寄生电容Cpg和漏极寄生电容Cpd;GaN HEMT器件的栅极G通过栅极寄生电容Cpg与源极S连接,GaNHEMT器件的漏极D通过漏极寄生电容Cpd与源极S连接,栅极G还顺次通过栅极寄生电感Lg、栅极寄生电阻Rg、栅漏本征电容Cgdp、漏极寄生电阻Rd、漏极寄生电感Ld与漏极D连接;栅源本征电容Cgsp的一端与栅极寄生电阻Rg和栅漏本征电容Cgdp的公共连接点连接,漏源本征电容Cdsp的一端与漏极寄生电阻Rd和栅漏本征电容Cgdp的公共连接点连接,栅源本征电容Cgsp的另外一端和漏源本征电容Cdsp的另外一端均通过源极寄生电阻Rs、源极寄生电感Ls与源极S连接。
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