[发明专利]制造电子设备的方法有效
申请号: | 201711129340.4 | 申请日: | 2014-08-12 |
公开(公告)号: | CN107825886B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | E.弗伦斯基;N.哈吉 | 申请(专利权)人: | 科迪华公司 |
主分类号: | B41M5/00 | 分类号: | B41M5/00;B41M7/00;B41J3/407;B41J11/00;B41J29/393;B32B33/00;B32B37/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 郑冀之 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 电子设备 方法 | ||
1.一种用于制造具有一个或多个发光元件的电子器件的层的设备,所述层具有期望的厚度,所述设备包括:
喷墨打印机,用于容纳衬底,所述一个或多个发光元件形成在所述衬底上,并且用于以在所述一个或多个发光元件上形成液体涂层的方式将有机材料的液滴打印到所述衬底上;
电路,用于以使得较厚的液体涂层由较大的液滴面积密度或尺寸形成,较薄的液体涂层由较小的液滴面积密度或尺寸形成,以及以由所述电路接纳取决于所期望厚度的至少一个值,并由所述电路用来指定沉积时液体涂层的厚度的方式,通过使得所述喷墨打印机改变液滴的液滴面积密度或尺寸的至少一个来根据所期望厚度控制所述衬底的每单位面积打印的液体的体积;和
处理机构,用于一旦沉积就处理液体涂层,以从所述液体涂层形成所述层,从而具有期望的厚度。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述设备用于为一系列衬底中的每个衬底产生所述层,并且其中:
每个相应衬底包括有源区,暴露区和在有源区和暴露区之间的缓冲区,所述有源区用于以对应于期望厚度的均匀厚度容纳所述层,所述暴露区不容纳所述层,所述缓冲区提供所述有源区和所述暴露区之间的过渡;以及
缓冲区用于根据相对于有源区每单位面积沉积的液体的第二体积来容纳所述层。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述电路用于使得所述喷墨打印机改变供应到所述喷墨打印机的打印头的喷嘴的电子驱动信号,以改变相对于所述有源区的所述缓冲区中的所述液滴的大小,从而每单位面积沉积液体的第二体积。
4.根据权利要求2所述的设备,其中所述电路用于使得所述喷墨打印机改变由从所述喷墨打印机的打印头的喷嘴喷射的液滴所提供的液滴面积密度,以改变相对于有源区的所述缓冲区中每单位面积的所述液滴的数量,从而每单位面积沉积液体的第二体积。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述电路用于使得所述喷墨打印机通过在打印网格的较少节点处沉积液滴来改变液滴面积密度,以便减小液滴相对于有源区的在所述缓冲区中沉积的空间频率。
6.根据权利要求4所述的设备,其中所述电路用于使得所述喷墨打印机通过改变共同提供给所述喷墨打印机的喷嘴的触发信号的时间相关频率来改变所述液滴面积密度,从而改变液滴相对于有源区的在缓冲区中沉积的空间频率。
7.根据权利要求4所述的设备,其中所述电路用于使得所述喷墨打印机通过相对于喷墨打印机的喷嘴中的第二喷嘴改变提供给所述喷墨打印机的喷嘴中的第一喷嘴的触发信号的时间相关频率来改变所述液滴面积密度,以便相对于缓冲区中的第二个提供的液滴的空间频率来改变由该缓冲区中的第一个提供的液滴的空间频率。
8.根据权利要求2所述的设备,其中:
根据在测试衬底上执行的校准过程来选择第二体积,所述校准过程用于测量沉积层的凸缘与均匀厚度之间的偏差;和
选择每单位面积的液体的第二体积以便于减小偏差。
9.根据权利要求7所述的设备,其中:
每单位面积打印的液体的体积包括每单位面积的第一体积;
一个或多个电子元件将成为电子显示面板的一部分,所述电子显示面板包括包围所述电子显示面板的像素化部分的有源区,暴露区以及在所述有源区和所述暴露区之间的缓冲区,所述有源区用于以对应于期望厚度的均匀厚度容纳所述层,所述暴露区不容纳所述层,所述缓冲区用于在所述有源区与所述暴露区之间提供过渡;和
所述缓冲区用于根据相对于有源区每单位面积沉积的液体的第二体积来容纳所述层,选择所述第二体积以减小所述层的凸缘和均匀厚度之间的偏差。
10.根据权利要求1所述的设备,其中所述有机材料包含单体且其中所述处理机构包括使所述液体涂层暴露于辐射以将所述单体转化成聚合物的源。
11.根据权利要求10所述的设备,其中所述辐射是紫外光辐射。
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