[发明专利]柔性显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201711121608.X | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN107946342B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 邓伟;孙文 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56;G09F9/30 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 黄灿;张博 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种柔性显示基板的制作方法,所述柔性显示基板的走线区未覆盖平坦化层,其特征在于,包括:
至少在位于所述柔性显示基板的走线区的导电图形的表面和侧壁上形成保护膜,所述保护膜能够防止导电图形受到刻蚀液的腐蚀,所述保护膜的厚度小于
形成所述保护膜包括:
在形成有所述导电图形的柔性显示基板上沉积保护材料层;
对所述保护材料层进行干刻,干刻过程中,控制所述保护材料层在平行于所述柔性显示基板的方向上的刻蚀速率小于在垂直于所述柔性显示基板的方向上的刻蚀速率,使得在所述导电图形的上表面和侧壁均残留保护材料形成所述保护膜。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,对所述保护材料层进行干刻的刻蚀设备的等离子源的功率小于10KW,偏压源的功率大于6KW,腔体气压10mTorr,刻蚀气体Cl2 总流量2500sccm。
3.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制作方法,其特征在于,形成所述保护膜之后,所述方法还包括:
在形成有所述保护膜的柔性显示基板上形成平坦化层的图形,所述平坦化层的图形未覆盖所述走线区;
沉积导电材料,对所述导电材料进行构图形成所述柔性显示基板的阳极。
4.一种柔性显示基板,所述柔性显示基板的走线区未覆盖平坦化层,其特征在于,采用如权利要求1-3中任一项所述的制作方法制作得到,至少在所述柔性显示基板的走线区的导电图形的上表面和侧壁上覆盖有保护膜,所述保护膜能够防止导电图形受到刻蚀液的腐蚀,所述保护膜的厚度小于
5.根据权利要求4所述的柔性显示基板,其特征在于,所述导电图形为源漏金属层图形。
6.根据权利要求4所述的柔性显示基板,其特征在于,所述保护膜采用Ti。
7.根据权利要求4所述的柔性显示基板,其特征在于,所述导电图形采用Ti/Al/Ti的叠层结构。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求4-7中任一项所述的柔性显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的