[发明专利]模板复制

权利要求书

1.一种压印光刻方法，包括：

识别模板的第一有效区的一个或多个尺寸属性；

在使所述模板与基板接触之前，至少部分地基于所识别的所述模板的第一有效区的尺寸属性，确定所述基板的第二有效区的倍率校正；

测量所述模板的面外变形；

测量所述基板的面外变形；

在确定所述倍率校正之前，将背压力施加于所述模板，以补偿所测量的所述模板的面外变形；

在确定所述倍率校正之前，将背压力施加于所述基板，以补偿所测量的所述基板的面外变形；

在补偿所述模板和基板的面外变形之后：

i)使定位在所述基板上的压印抗蚀剂与所述模板接触，使得所述模板的第一有效区中的图案特征被所述压印抗蚀剂填充，并且

ii)将另外的背压力施加于所述模板、基板或这二者，其中，施加的另外的背压力被选择使得所述基板的第二有效区呈现所述倍率校正，

其中，在确定所述倍率校正之前将背压力施加于所述模板以补偿所测量的所述模板的面外变形进一步包括通过在所述第一有效区上方凹陷到所述模板中的第一室将背压力施加于所述模板，并且

其中，在确定所述倍率校正之前将背压力施加于所述基板以补偿所测量的所述基板的面外变形进一步包括通过在所述第二有效区下方凹陷到所述基板中的第二室将背压力施加于所述基板。

2.根据权利要求1所述的压印光刻方法，其中，所述基板的第二有效区的倍率校正在使所述压印抗蚀剂与所述模板接触之前被确定。

3.根据权利要求1所述的压印光刻方法，其中，在所述模板与定位在所述基板上的压印抗蚀剂接触的同时，所述另外的背压力被施加于所述模板、基板或这二者。

4.根据权利要求1所述的压印光刻方法，其中，所述面外变形是凸变形或凹变形中的一个。

5.根据权利要求1所述的压印光刻方法，其中，将所述另外的背压力施加于所述模板、基板或这二者包括基于所述倍率校正将正的另外的背压力施加于所述模板并且将负的另外的背压力施加于所述基板，以增大所述基板的第二有效区的大小。

6.根据权利要求1所述的压印光刻方法，其中，将所述另外的背压力施加于所述模板、基板或这二者包括基于所述倍率校正将负的另外的背压力施加于所述模板并且将正的另外的背压力施加于所述基板，以减小所述基板的第二有效区的大小。