[发明专利]改进的研磨抛光机

说明书

一种改进的研磨抛光机，包括基座，所述基座具有碗状物，转动的驱动盘和适于支撑压盘的驱动盘驱动器。所述研磨抛光机包括头部，所述头部设置用于支撑样品支架。头部具有用于样品支架的旋转驱动的第一驱动器和用于移动样品架接近和远离驱动盘的第二驱动器。根据第一个方面，头部包括可操作地与第一驱动器连接的测压元件和可操作地与第二驱动器连接的计数器。计数器设置用于确定头部接近和远离驱动盘的移动和移动程度。具有控制系统。根据第二个方面，具有指状物，指状物可从可与样品支架一起转动的头部的部分延伸和缩回。根据第三个方面，具有用于与碗状物配合的可替换的碗状衬垫。在第四个方面，在头部设有照明设备。

本申请是申请日为2009年6月4日、申请号为201610035016.5、发明名称为“改进的研磨抛光机”的发明专利申请的分案申请。且申请日为2009年6月4日、申请号为201610035016.5、发明名称为“改进的研磨抛光机”的发明专利申请是国际申请号为PCT/US2009/046190、国家申请号为200980123745.4、发明名称为“改进的研磨抛光机”的发明专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2008年6月20提交的美国专利临时申请No.61/074,455的优先权。

背景技术

本发明涉及研磨抛光机。更具体地，本发明涉及一种用于为实验制备样品的改进的研磨抛光机

研磨抛光机应用于许多产业。它们经常用于制备为进一步实验用的金属样品、聚合物样品、陶瓷样品或类似样品，例如用于金相实验。

已知的研磨抛光机包括标本支架或样品支架，所述标本支架或样品支架设置成可相对于压盘转动，所述压盘也被设置成可以转动。用这种方式，有两个转动的动作同时发生。浆(通常为研磨料)被注入到压盘上为研磨和抛光样品提供研磨介质。

样品支架被支撑用于在卡盘上转动。支架是具有多孔的平面盘，样品位于孔中。在一种方式中，样品被锁入支架中并且由支架施加向下的压力压在压盘上。当支架和压盘转动时，支架(和样品)施加的压力与浆的研磨作用一起，对样品产生研磨和抛光的作用。

在另一种方式中，样品漂浮在支架内并且柱塞被移动与样品接触以对样品施加压力。此外，当所述支架和压盘转动时，柱塞施加的压力与浆的研磨作用一起导致对样品产生研磨和抛光的作用。

支架接近和远离压盘的移动被位于研磨抛光机头部的驱动器控制。驱动马达被用于定位支架并且因此相对于压盘的样品。已知研磨抛光机的一个缺陷是没有良好的定位控制器或机构以精确控制支架相对于压盘的位置。

压盘被支撑在碗状物内。碗状物用作在研磨或抛光操作中产生碎片的容器。水或其他液体用于冲洗碗状物以清除碎片。实践证明使用已知的冲洗系统，碎片被收集在碗状物内，并且导致其难看和不便地堆积在碗状物内。实践还证明如果研磨特别地猛烈，压盘会发热从而会不利地影响样品制备。

因此地，需要一种改进的研磨抛光机。所需的这种研磨抛光机包括改进的照明系统以提高工作区域的能见度。更所需地，这种研磨抛光机具有改进的冲洗/碗状物清洗系统。更值得向往地，这种研磨抛光机具有用于定位头部和样品支架以及用于相对于旋转压盘将样品固定在适当位置的改进系统。

发明内容

一种改进的研磨抛光机包括具有碗状物的基座，转动的驱动盘，驱动盘驱动器和控制系统。所述驱动盘适于支撑压盘。

该研磨抛光机包括改进的照明系统以提高工作区域的能见度并且具有改进的冲洗或碗状物清洗系统。一种改进的系统还被提供用于定位头部和样品支架以及用于相对于转动压盘将所述样品固定在适当位置。

在本实施例中，所述头部设置用于支撑样品支架。研磨抛光机包括封装在头部内的用于样品支架的旋转驱动的第一驱动器(转动驱动器)和用于垂直地移动头部和样品支架使其接近和远离压盘的第二驱动器(高度驱动器)。