[发明专利]一种LED外延结构在审
申请号: | 201711104715.1 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107910408A | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 曹毅;曹财铭 | 申请(专利权)人: | 湖南华特光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 | 代理人: | 赵娟 |
地址: | 423000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 外延 结构 | ||
技术领域
本发明属于LED外延技术领域,特别是涉及一种LED外延结构。
背景技术
LED是一种固态的半导体器件,它可以直接把电转化为光,LED 的心脏是一个半导体的晶片,晶片的一端附在一个支架上,一端是负 极,另一端连接电源的正极,使整个晶片被环氧树脂封装起来,半导 体晶片由两部分组成,一部分是P型半导体,在它里面空穴占主导地 位,另一端是N型半导体,在这边主要是电子,但这两种半导体连 接起来的时候,它们之间就形成一个P-N结,当电流通过导线作用于 这个晶片的时候,电子就会被推向P区,在P区里电子跟空穴复合, 然后就会以光子的形式发出能量,这就是LED发光的原理,而光的 波长也就是光的颜色,是由形成P-N结的材料决定的。
最初LED用作仪器仪表的指示光源,后来各种光色的LED在交 通信号灯和大面积显示屏中得到了广泛应用,产生了很好的经济效益 和社会效益。以12英寸的红色交通信号灯为例,在美国本来是采用 长寿命,低光视效能的140瓦白炽灯作为光源,它产生2000流明的 白光。经红色滤光片后,光损失90%,只剩下200流明的红光。而在 新设计的灯中,Lumileds公司采用了18个红色LED光源,包括电路 损失在内,共耗电14瓦,即可产生同样的光效。汽车信号灯也是LED 光源应用的重要领域。
对于一般照明而言,人们更需要白色的光源。1998年发白光的 LED开发成功。这种LED是将GaN芯片和钇铝石榴石(YAG)封 装在一起做成。GaN芯片发蓝光(λp=465nm,Wd=30nm),高温烧 结制成的含Ce3+的YAG荧光粉受此蓝光激发后发出黄色光射,峰值 550nLED灯m。蓝光LED基片安装在碗形反射腔中,覆盖以混有YAG 的树脂薄层,约200-500nm。LED基片发出的蓝光部分被荧光粉吸 收,另一部分蓝光与荧光粉发出的黄光混合,可以得到白光。
LED灯最早应用半导体P-N结发光原理制成的LED光源问世于 20世纪60年代初。当时所用的材料是GaAsP,发红光(λp=650nm), 在驱动电流为20毫安时,光通量只有千分之几个流明,相应的光视 效能约0.1流明/瓦。
70年代中期,引入元素In和N,使LED产生绿光(λp=555nm), 黄光(λp=590nm)和橙光(λp=610nm),光视效能也提高到1流明/ 瓦。到了80年代初,出现了GaAlAs的LED光源,使得红色LED 的光视效能达到10流明/瓦。90年代初,发红光、黄光的GaAlInP 和发绿、蓝光的GaInN两种新材料的开发成功,使LED的光视效能 得到大幅度的提高。在2000年,前者做成的LED在红、橙区 (λp=615nm)的光效达到100流明/瓦,而后者制成的LED在绿色区 域(λp=530nm)的光视效能可以达到50流明/瓦。
LED外延片是一块加热至适当温度的衬底基片,材料是半导体 照明产业技术发展的基石。不同的衬底材料,需要不同的LED外延 片生长技术、芯片加工技术和器件封装技术,衬底材料决定了半导体 照明技术的发展路线。
LED外延片生长的基本原理是:在一块加热至适当温度的衬底 基片(主要有蓝宝石和、SiC、Si)上,气态物质InGaAlP有控制的输送 到衬底表面,生长出特定单晶薄膜。目前LED外延片生长技术主要 采用有机金属化学气相沉积方法。
LED外延片衬底材料是半导体照明产业技术发展的基石。不同 的衬底材料,需要不同的LED外延片生长技术、芯片加工技术和器 件封装技术,衬底材料决定了半导体照明技术的发展路线。
LED外延片衬底材料选择特点:
结构特性好,外延材料与衬底的晶体结构相同或相近、晶格常数 失配度小、结晶性能好、缺陷密度小;界面特性好,有利于外延材料 成核且黏附性强;化学稳定性好,在外延生长的温度和气氛中不容易 分解和腐蚀;热学性能好,包括导热性好和热失配度小;导电性好, 能制成上下结构;光学性能好,制作的器件所发出的光被衬底吸收小; 机械性能好,器件容易加工,包括减薄、抛光和切割等;价格低廉; 大尺寸,一般要求直径不小于2英吋。容易得到规则形状衬底(除非 有其他特殊要求),与外延设备托盘孔相似的衬底形状才不容易形成 不规则涡流,以至于影响外延质量。在不影响外延质量的前提下,衬 底的可加工性尽量满足后续芯片和封装加工工艺要求。
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