[发明专利]超导磁共振成像设备的匀场方法在审
申请号: | 201711098279.1 | 申请日: | 2017-11-09 |
公开(公告)号: | CN109765509A | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 岳振华;薛廷强;潘怀宇 | 申请(专利权)人: | 西门子(深圳)磁共振有限公司 |
主分类号: | G01R33/3815 | 分类号: | G01R33/3815 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 匀场 磁场 匀场装置 均匀性 调整步骤 磁共振成像设备 超导磁共振 成像设备 周向设置 磁共振成像 轴向延伸 偏离 | ||
1.一种超导磁共振成像设备的匀场方法,其特征在于,
该匀场方法用于对如下磁共振成像设备的磁体的磁场进行匀场,该磁共振成像设备包括:
一第一匀场装置,其包括多个匀场条,并沿磁体的周向设置,且沿所述磁体的轴向延伸,
一第二匀场装置,其包括多个匀场模块,并沿磁体的周向设置在磁体的两侧端面上,
所述匀场方法包括:
第一调整步骤,利用第一匀场装置来调整所述磁场的均匀性,并使所述磁场的均匀性达到能够用于磁共振成像的规定值;
第二调整步骤,当经过所述第一调整步骤调整得到的所述磁场的均匀性偏离了所述规定值的情况下,利用第二匀场装置来进一步调整当前磁场的均匀性。
2.根据权利要求0所述的匀场方法,其特征在于,
所述第二调整步骤包括:
测量当前磁场的场强分布;
对于所述当前磁场计算各阶谐波分量;
以使所述当前磁场的场强分布或各阶谐波分量达到规定值的方式确定所述第二匀场装置的各匀场模块的调整物理量,
根据所述调整物理量来调节所述匀场模块。
3.根据权利要求2所述的匀场方法,其特征在于,
所述匀场模块能够沿所述磁体的径向或周向移动,确定各匀场模块在磁体径向或周向上的多个特定位置与该匀场模块产生的调整磁场的场强分布或/和与该调整磁场的各阶谐波分量之间的关系,
以使所述当前磁场的场强分布或/和所述各阶谐波分量达到规定值的方式确定所述第二匀场装置的各匀场模块在所述磁体径向或周向上的特定位置。
4.根据权利要求3所述的的匀场方法,其特征在于,
测量无匀场模块时所述磁体在匀场区域的初始磁场的场强分布或各阶谐波分量,设置各匀场模块并将各匀场模块分别移动至所述多个特定位置,测量在该多个特定位置时所述匀场区域的调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量,将调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量减去初始磁场的场强分布或各阶谐波分量从而确定该匀场模块在该特定位置产生的调整磁场的场强分布或调整磁场的各阶谐波分量。
5.根据权利要求2所述的匀场方法,其特征在于,
所述匀场模块是位置固定且能够改变质量或温度的铁磁性元件,确定所述匀场模块的质量或者温度改变与该匀场模块产生的调整磁场分布或/和与该调整磁场的各阶谐波之间的关系,
以使所述当前磁场的场强分布或/和所述各阶谐波分量达到规定值的方式确定所述第二匀场装置的各匀场模块的质量或温度。
6.根据权利要求5所述的的匀场方法,其特征在于,
测量无匀场模块时所述磁体在匀场区域的初始磁场的场强分布或各阶谐波分量,设置所述匀场模块并改变所述匀场模块的质量或温度,测量在多个特定质量或温度时所述匀场区域的调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量,将调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量减去初始磁场的场强分布或各阶谐波分量从而确定该匀场模块在该特定质量或者温度时产生的调整磁场的场强分布或调整磁场的各阶谐波分量。
7.根据权利要求2所述的匀场方法,其特征在于,
所述匀场模块是位置固定的能够产生电磁场的通电线圈,确定向所述通电线圈的通电电流与该匀场模块产生的调整磁场分布或/和与该调整磁场的各阶谐波之间的关系,
以使所述当前磁场的场强分布或/和所述各阶谐波分量达到规定值的方式确定向所述第二匀场装置的各通电线圈通电的电流大小。
8.根据权利要求7所述的的匀场方法,其特征在于,
测量无匀场模块时所述磁体在匀场区域的初始磁场的场强分布或各阶谐波分量,设置所述匀场模块并改变向所述匀场模块的通电电流,测量在多个通电电流时所述匀场区域的调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量,将调整后磁场的场强分布或各阶谐波分量减去初始磁场的场强分布或各阶谐波分量从而确定该匀场模块在该特定通电电流时产生的调整磁场的场强分布或调整磁场的各阶谐波分量。
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